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J-GLOBAL ID：201502203648593676   整理番号：15A1334122

圧力応答形状記憶高分子上への三次元マクロ多孔性フォトニック結晶の直接書込

Direct Writing of Three-Dimensional Macroporous Photonic Crystals on Pressure-Responsive Shape Memory Polymers

著者 (7件)： FANG Yin (Univ. Florida, Florida, USA) ,  NI Yongliang (Univ. Florida, Florida, USA) ,  LEO Sin-Yen (Univ. Florida, Florida, USA) ,  WANG Bingchen (Univ. Florida, Florida, USA) ,  BASILE Vito (Industrial Technol. and Automation Inst., National Council of Res., Milano, ITA) ,  TAYLOR Curtis (Univ. Florida, Florida, USA) ,  JIANG Peng (Univ. Florida, Florida, USA)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7  号： 42  ページ： 23650-23659  発行年： 2015年10月28日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 良好に確立された鋳型ナノ加工技術を新しいタイプの圧力応答形状記憶高分子と統合することで,単一工程で三次元秩序マクロ多孔性フォトニック結晶パターンを加工するための動的直接書込技術を開発した。巨視的と微視的フォトニック結晶の特徴の両方が可逆的にパターン化され消去されることが示され,それは再形態化可能なナノ光学的デバイスを開発するために望ましいことであった。系統的実験が3D秩序マクロ細孔の形状記憶的回復に影響する材料選択,寸法,加えた力および情報の書込速度の重要さを示した。動的書込手法は準静的押込みより形状記憶回復メカニズムと臨界回復力における顕著な違いを示した。

シソーラス用語： *機能性高分子 ,  *重合体 ,  多孔性 ,  フォトニック結晶 ,  *データ書込 ,  ナノメータ加工 ,  ナノインデンテーション
準シソーラス用語： *形状記憶高分子 ,  マクロ多孔性 ,  *直接書込み ,  ナノ加工技術

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 応答 ,  形状記憶高分子 ,  マクロ多孔性 ,  フォトニック結晶 ,  直接書込