円柱構造多孔質上に成膜したCu<sub>x</sub>O/金属薄膜からのテラヘルツ放射の増強

LU Xu; ISHIDA Yohei; MISHINA Tomobumi; NGUYEN Mai Thanh; YONEZAWA Tetsu

文献

J-GLOBAL ID：201502203790915788 整理番号：15A1219979

円柱構造多孔質上に成膜したCu_xO/金属薄膜からのテラヘルツ放射の増強

Enhanced Terahertz Emission from Cu_xO/Metal Thin Film Deposited on Columnar-Structured Porous Silicon

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Bulletin of the Chemical Society of Japan (Bulletin of the Chemical Society of Japan)

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巻： 88 号： 10 ページ： 1385-1387 (J-STAGE) 発行年： 2015年
JST資料番号： G0450A ISSN： 0009-2673 CODEN： BCSJA8 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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円柱構造をもつ微小多孔質シリコン(MS-PSi)を基板として使用することによって,Cu_xO/金属ナノ薄膜からのTHz放射を増強する新規手法を提案する。光学反射率低減と表面積増大によって,平面基板の場合と比較してTHz放射強度を数倍増大できた。(翻訳著者抄録)

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