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J-GLOBAL ID:201502203940654120   整理番号:15A1007632

磁場中での調製によって作製したシリカゲルをベースにした異方性材料開発

著者 (3件):
資料名:
巻: 2014  ページ: 148-151  発行年: 2015年07月 
JST資料番号: X0986A  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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著者らは,磁場中調整によって作製したシリカゲルを異方性材料として使用するための実験を行ってきた。本研究では,Mn(II)をドープしたオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)および直鎖ポリエチレンイミン(LPEI)を添加したオルソケイ酸テトラメチル(TMOS)の2つの材料について磁場中調整を行った。TEOS-Mn(II)では,希塩酸とエタノール混合溶液に溶解後,塩化マンガン(II)希塩酸エタノール溶液と混合した。溶液を70°Cに加熱し溶媒を除去後,10Tまでの磁場中で2日間保持しゲル化した。得られたゲルの異方性をボックスカウント法により調べた結果,異方性が検出されたが,定性的結果にとどまった。溶媒は異なるが,TMOS-LPEIに関して同様の実験を行った結果,明瞭な異方性を観察することができた。
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分類 (1件):
分類
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吸着剤 

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