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J-GLOBAL ID：201502204024409800   整理番号：15A1241938

高開口数プロジェクションレンズにおけるレジスト内の空間像強度と実験的に得たレジストパターン幅との比較

Comparing the Experimental Resist Pattern Width with Aerial Image Intensity in Resist in High NA Projection Lens

著者 (3件)： SHIBUYA Masato (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN) ,  TAKADA Akira (Topcon Corp., Tokyo, JPN) ,  NAKASHIMA Toshiharu (Nikon Corp., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9426  ページ： 94261C.1-94261C.12  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光リソグラフィーでは,精細なパターンだけでなく,微細なパターン幅を正確に露光する必要がある。通常,これらの物理量の予測にはスカラーイメージング理論が使われるが,この理論を用いた物体による回折現象の解析について,特に,ベクトルメージング理論における傾斜した入射面に対する結果と矛盾する結果が得られるなどの欠点が指摘されている。本論文では,イメージング理論の有効性を評価するために,理論を詳細に考察し,レジストパターン幅に対して理論から得られた結果と,実験的に得た値とを比較した。最初に,エネルギー保存則の観点からスカラーイメージング理論を解説し,ついで,物体に対する照射傾斜因子を導入し論じた。最後に,高開口数プロジェクションレンズにおけるレジスト内の空間像強度と実験的に得たレジストパターン幅との比較を行った。

シソーラス用語： *開口数 ,  *レンズ ,  フォトレジスト ,  画像 ,  *制御 ,  エネルギー保存則 ,  対応原理 ,  光子 ,  数
準シソーラス用語： *高開口数 ,  *プロジェクションレンズ ,  空間像 ,  *レジストパターン線幅コントロール ,  画像化 ,  光子数

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光学情報処理  (BD03060T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高開口数 ,  プロジェクションレンズ ,  レジスト ,  空間像 ,  実験 ,  パターン幅