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J-GLOBAL ID：201502204450716043   整理番号：15A1104579

サリチル酸法による促進酸化法におけるラジカル発生に関する基礎的研究

著者 (5件)： 高浪龍平 (大阪産大 工) ,  谷口省吾 (大阪産大 工) ,  林新太郎 (大阪産大 工) ,  尾崎博明 (大阪産大 工) ,  ZHOU Mengjue (大阪産大 工)
資料名： 日本水環境学会シンポジウム講演集
巻： 18th  ページ： 216  発行年： 2015年09月14日 
JST資料番号： L5471A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学的水処理 ,  *酸化 ,  *ヒドロキシルラジカル ,  紫外線照射 ,  過酸化水素 ,  併用効果 ,  pH依存性 ,  芳香族カルボン酸 ,  フェノール類 ,  ヒドロキシ酸 ,  多価フェノール
準シソーラス用語： *促進酸化

分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (3件)： サリチル酸 ,  2,3-DHBA ,  2,5-DHBA

タイトルに関連する用語 (4件)： サリチル酸 ,  促進酸化法 ,  ラジカル ,  基礎的研究