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J-GLOBAL ID：201502204581705861   整理番号：15A0804993

界面孔移動を介した光触媒活性増強のための,Bi_3.64Mo_0.36O_6.55/Bi₂MoO₆ヘテロ構造の時間依存的発展

Time-dependent evolution of the Bi_3.64Mo_0.36O_6.55/Bi₂MoO₆ heterostructure for enhanced photocatalytic activity via the interfacial hole migration

著者 (6件)： DAI Zan (Key Lab. for Green Chemical Process of Ministry of Education and School of Chemistry and Environmental Engineering ...) ,  QIN Fan ,  ZHAO Huiping ,  TIAN Fan ,  LIU Yunling ,  CHEN Rong
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 7  号： 28  ページ： 11991-11999  発行年： 2015年07月28日 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,階層的Bi_3.64Mo_0.36O_6.55/Bi₂MoO₆アイソタイプヘテロ構造を,犠牲鋳型としてBi₂O₃多孔質ナノスフェアを用いることに依り,ワンポット水熱経路を介して,調製に成功した。反応時間を同調することに依り,Moエッチングを含む,Bi_3.64Mo_0.36O_6.55/Bi₂MoO₆の形成プロセス,相転移と異方性成長を明確に同定した。より重要なことには,Bi_3.64Mo_0.36O_6.55/Bi₂MoO₆ヘテロ構造は,色素光劣化に対する光触媒活性が,効率的な電子孔分離と,内側のBi_3.64Mo_0.36O_6.55層から,外側のBi₂MoO₆層への界面光生成孔移動のために,純ビスマスモリブデン酸塩よりも著しく増強することを示した。外側層から内側層への反対の孔移動もまた,Bi₂O₃/Bi₂WO₆ヘテロ構造中に検出され,これは光触媒活性の減少を生じ,孔移動方向の重要性を更に検証した。本検討は,ヘテロ構造光触媒を調製する新しい経路を提供し,また光触媒性能を改良するための電荷移動媒介の戦略も与えてくれる。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： エッチング ,  相転移 ,  光劣化 ,  *発展 ,  *界面 ,  *移動 ,  *触媒活性 ,  *強化 ,  *素子構造 ,  *時間依存性 ,  *ビスマス化合物 ,  *モリブデン酸塩 ,  クラスタ化 ,  鋳型【鋳造】 ,  機能材料 ,  多孔性 ,  ナノ構造 ,  ナノ粒子 ,  ワンポット合成 ,  水熱合成 ,  触媒調製 ,  反応時間 ,  過程 ,  異方性 ,  成長 ,  同定 ,  色素 ,  *正孔 ,  光触媒 ,  経路
準シソーラス用語： ナノスフェア ,  *ヘテロ構造 ,  階層的クラスタリング ,  犠牲材料 ,  形成プロセス ,  *光触媒活性

分類 (4件)： 触媒の調製  (CB06110P) ,  光化学反応  (CB08020F) ,  固体プラズマ  (BM02160W) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 界面 ,  光触媒活性 ,  増強 ,  BI3 ,  ヘテロ構造 ,  時間依存 ,  発展