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J-GLOBAL ID：201502204713565657   整理番号：15A0958713

レーザ干渉リソグラフィーでの周期限界の新しい低減法

A novel method to reduce the period limitation in laser interference lithography

著者 (9件)： DAI Longgui (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  XUAN Mingdong (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  DING Peng (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  JIANG Yang (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  MA Ziguang (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  JIA Haiqiang (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  WANG Wenxin (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  ZHOU Junming (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  CHEN Hong (Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN)
資料名： Optical and Quantum Electronics  (Optical and Quantum Electronics)
巻： 47  号： 7  ページ： 2331-2338  発行年： 2015年07月 
JST資料番号： A0205A  ISSN： 0306-8919  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  レーザビーム ,  *光干渉 ,  周期構造 ,  限界条件 ,  ナノ構造 ,  ナノワイヤ ,  分解能 ,  レーザ応用
準シソーラス用語： *レーザ干渉リソグラフィー

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (3件)： レーザ干渉リソグラフィー ,  周期 ,  限界