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J-GLOBAL ID：201502206077727610   整理番号：15A0830038

ポリジメチルシロキサンの脱オリゴマ化生成物を用い化学的に修飾したシリカの熱重量分析法

Thermogravimetric analysis of silicas chemically modified with products of deoligomerization of polydimethylsiloxane

著者 (5件)： PROTSAK I. S. (Chuiko Inst. of Surface Chemistry of National Acad. of Sciences of Ukraine, 17 General Naumov Str., 03164, Kiev, UKR) ,  KUZEMA P. O. (Chuiko Inst. of Surface Chemistry of National Acad. of Sciences of Ukraine, 17 General Naumov Str., 03164, Kiev, UKR) ,  TERTYKH V. A. (Chuiko Inst. of Surface Chemistry of National Acad. of Sciences of Ukraine, 17 General Naumov Str., 03164, Kiev, UKR) ,  BOLBUKH Y. M. (Chuiko Inst. of Surface Chemistry of National Acad. of Sciences of Ukraine, 17 General Naumov Str., 03164, Kiev, UKR) ,  KOZAKEVICH R. B. (Chuiko Inst. of Surface Chemistry of National Acad. of Sciences of Ukraine, 17 General Naumov Str., 03164, Kiev, UKR)
資料名： Journal of Thermal Analysis and Calorimetry  (Journal of Thermal Analysis and Calorimetry)
巻： 121  号： 2  ページ： 547-557  発行年： 2015年08月 
JST資料番号： H0095C  ISSN： 1388-6150  CODEN： JTHEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヒュームドシリカを炭酸ジメチルあるいは炭酸ジエチルの存在下重合度4~68のポリジメチルシロキサン(PDMS)を用い修飾した。修飾ヒュームドシリカをIR,元素分析およびアルゴンの低温吸着の手段により特性化した。グラフト化した有機シロキサン層の熱挙動をTGを用い研究した。その結果,その有機シロキサン層の熱安定性が,ヒュームドシリカを修飾するために用いたPDMSの鎖長およびそのPDMSを部分的に脱オリゴマ化するための開始剤として用いた炭酸ジアルキルの性質に依存した。PDMS-100(n=35~68)および炭酸ジエチルの混合物で修飾したシリカは,研究した全ての有機シロキサン試料中最大の熱安定性を持っていることが分かった。Copyright 2015 Akademiai Kiado, Budapest, Hungary Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリジメチルシロキサン ,  解重合 ,  *熱重量分析 ,  *化学修飾 ,  シリカヒューム ,  *二酸化ケイ素 ,  吸着 ,  *熱安定性 ,  赤外吸収スペクトル ,  有機-無機ハイブリッド

分類 (2件)： 非金属化合物  (CD01070R) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (2件)： 炭酸ジエチル ,  炭酸ジメチル

タイトルに関連する用語 (7件)： ポリジメチルシロキサン ,  オリゴマ化 ,  生成物 ,  化学 ,  修飾 ,  シリカ ,  熱重量分析法