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J-GLOBAL ID：201502206286334838   整理番号：15A0783186

光触媒とCathilonによるA5052の研磨現象に対する一考察

著者 (1件)： 田中武司 (立命館大)
資料名： 砥粒加工学会誌  (Abrasive Technology)
巻： 59  号： 7  ページ： 402-407  発行年： 2015年07月01日 
JST資料番号： L0473A  ISSN： 0914-2703  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 紫外線励起加工の基礎研究の一環として,アルミニウム合金の研磨現象を取り上げた。Alを数種の水溶液に浸漬し,XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy:X線光電子分光法)により表面の定性分析を行い,Al表面で起こる化学反応を推定した。また,Al,Mg,Feなどの酸化・溶解量を,ICPS(Inductively Coupled Plasma Spectrometry:誘導結合プラズマ発光分光分析法)により定量的に分析した。A5052の研磨過程に結びつけて論じた結果,次のような結言を得ることができる。AlはTiO₂水溶液には溶けず,TiO₂-H₂OスラリーによるA5052の研磨では,研磨面の変化は小さい。AlはCathilon水溶液には少量溶けるが,Cathilon-H₂OスラリーによるA5052の研磨では,研磨面の変化は小さい。AlはTiO₂-Cathilon水溶液に対して,紫外線照射下でもAlの溶解量はそれほど増えない。Alの酸化物,窒素酸化物,窒化物が生成し,塩化物が少量溶解する。TiO₂-Cathilon-H₂Oスラリーに紫外線照射したとき,A5052の研磨面は平滑化されやすい。(著者抄録)

シソーラス用語： *アルミニウム合金 ,  *研磨 ,  研磨面 ,  *光触媒 ,  酸化チタン ,  微粒子 ,  *蛍光体 ,  *光ポンピング ,  紫外線 ,  量子化学 ,  電子 ,  正孔 ,  *化学機械研磨 ,  X線光電子分光法 ,  ICP-ES分析 ,  水 ,  スラリー ,  紫外線照射 ,  平滑化 ,  蛍光染料
準シソーラス用語： *A5052 ,  二酸化チタン ,  *紫外線励起研摩

分類 (1件)： その他の表面処理  (WC08070F)

物質索引 (1件)： カチロン

引用文献 (18件)：

• 1) O. Kirino and T. Enomoto: Development of Abrasive-free Polishing Method for Cu Utilizing Vacuum Ultra-Violet Light, Transactions of the JSME, 74, 742 (2008-6) 288 (in Japanese).
• 2) J. Watanabe and M. Touge: Super-fine polishing technology of diamond excited by an ultraviolet ray, Machine Technology, 60, 5 (2012) 46 (in Japanese).
• 3) T. Sakamoto, T. Inaki, K. Oda, M. Touge and T. Fujita: Ultraviolet-assisted Polishing of 4 inch SiC Substrate, J. JSAT, 58, 4 (2014) 235 (in Japanese).
• 4) T. Sakamoto, Y. Nambu, R. Saitou, M. Touge, T. Kawashita and N. Touge: Development of UV-truing technology for diamond grit-arranged blocks, J. JSAT, 57, 9 (2013) 600 (in Japanese).
• 5) T. Ohyoshi, H. Unpou, Y. Isono and T. Tanaka: Study of Ultraviolet-Ray Aided Machining (1^stReport) - Verification of Basic Principle and Phenomena, JSPE Kansai District Meeting (1999) 31(in Japanese).

タイトルに関連する用語 (4件)： 光触媒 ,  A5052 ,  研磨 ,  現象