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J-GLOBAL ID：201502206814342422   整理番号：15A0890559

系統的位置規則性の制御によるポリ(3-ヘキシルチオフェン)の機械的および光電的性質の調整

Tuning Mechanical and Optoelectrical Properties of Poly(3-hexylthiophene) through Systematic Regioregularity Control
著者 (12件)：
KIM Jin-Seong

KIM Jin-Seong について

(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)

Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR について

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KIM Jae-Han

KIM Jae-Han について

(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)

Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR について

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LEE Wonho

LEE Wonho について

(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)

Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR について

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YU Hojeong

YU Hojeong について

(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR)

Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR について

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YU Hojeong

YU Hojeong について

(Ulsan National Inst. of Sci. and Technol. (UNIST), Ulsan, KOR)

Ulsan National Inst. of Sci. and Technol. (UNIST), Ulsan, KOR について

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KIM Hyeong Jun

KIM Hyeong Jun について

(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)

Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR について

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SONG Inho

SONG Inho について

(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR)

Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR について

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SHIN Minkwan

SHIN Minkwan について

(Yonsei Univ., Seoul, KOR)

Yonsei Univ., Seoul, KOR について

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OH Joon Hak

OH Joon Hak について

(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR)

Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR について

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JEONG Unyong

JEONG Unyong について

(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR)

Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyeongbuk, KOR について

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KIM Taek-Soo

KIM Taek-Soo について

(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)

Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR について

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KIM Bumjoon J.

KIM Bumjoon J. について

(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)

Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR について


資料名：
Macromolecules  (Macromolecules)

Macromolecules について


巻： 48  号： 13  ページ： 4339-4346  発行年： 2015年07月14日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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3-ヘキシルチオフェン単量体と頭-頭結合した3,4′-ジヘキシル-2,2′-ビチオフェン二量体のNi-媒介修正Grignardメタセシス共重合により,64~98%の位置規則性を有する一連の共役ポリ(3-ヘキシルチオフェン)(P3HT)を合成した。これらの重合体の構造的,電気的および機械的性質に及ぼす位置規則性の影響を研究した。すれすれ入射X線散乱およびDSCから,位置規則性の低下によりP3HTの結晶度の低下が起こることが判明した。また,低位置規則性P3HTは電気的性能を低下させたが,機械的性質に関しては利点のあることが明らかになった。これらの結果から,位置規則性を制御することによって共役重合体の機械的および電気的性質を用途に応じて調整できることが分かった。
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ポリヘキシルチオフェン

ポリヘキシルチオフェン について

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メタセシス重合

メタセシス重合 について

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Grignard反応

Grignard反応 について

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共重合

共重合 について

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規則度

規則度 について

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共役

共役 について

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結晶度

結晶度 について

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ニッケル錯体

ニッケル錯体 について

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示差走査熱量測定

示差走査熱量測定 について

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すれすれ入射

すれすれ入射 について

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X線散乱

X線散乱 について

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薄膜トランジスタ

薄膜トランジスタ について

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*高分子半導体

高分子半導体 について

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高分子薄膜

高分子薄膜 について

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キャリア移動度

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電気化学

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機械的性質

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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Grignardメタセシス重合

Grignardメタセシス重合 について

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*P3HT【重合体】

P3HT【重合体】 について

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位置規則性

位置規則性 について


分類 (1件)：
分類
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高分子固体の物理的性質 
(CG02024U)

高分子固体の物理的性質 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
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位置規則性

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3-ヘキシルチオフェン

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光電

光電 について

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性質

性質 について


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