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J-GLOBAL ID:201502207340592887   整理番号:15A1120851

多孔質銅アジドのその場調製とキャラクタリゼーション【Powered by NICT】

In-situ Preparation and Characterization of Porous Copper Azides
著者 (4件):
資料名:
号:ページ: 26-28  発行年: 2015年 
JST資料番号: C2021A  ISSN: 1003-1480  CODEN: HUOGE5  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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多孔質銅膜は水素気泡堆積によるチタンフライヤ上に形成された,多孔質銅アジドをその場合成法により合成した。キャラクタリゼーションと試験は,水素気泡テンプレート法を用いて細孔構造を有する多孔質銅膜を作ることができるが,約20~100nm粒径を有する多孔質銅アジドはその場合成法を用いて得た,生成物の熱分解ピーク温度は211.76°Cであり,活性化エネルギーは180kJ/molであることを示した。多孔質銅アジドによるチタンフライヤーを駆動するにより,CL-20は爆発することができた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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各種爆薬と推薬 
物質索引 (1件):
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