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J-GLOBAL ID：201502207707956937   整理番号：15A0868820

硬い基板上の柔軟な膜のナノインデンテーションに対するモデル

Models for nanoindentation of compliant films on stiff substrates

著者 (4件)： LI Yang (Northwestern Univ., Illinois, USA) ,  VALAVALA Pavan (Northwestern Univ., Illinois, USA) ,  WATCHAROTONE Supinda (Northwestern Univ., Illinois, USA) ,  BRINSON L. Catherine (Northwestern Univ., Illinois, USA)
資料名： Journal of Materials Research  (Journal of Materials Research)
巻： 30  号： 11  ページ： 1747-1760  発行年： 2015年06月14日 
JST資料番号： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノインデンテーションにおいて,測定する膜が基板に比べて非常に柔らかい場合,基板の影響を考慮する必要がある。本研究では,薄膜/基板系に対して広く用いられるいくつかのナノインデンテーションモデルを比較し,直接有限要素(FE)アプローチについて検討した。モデルの妥当性を,FEにおける弾塑性膜のインデンテーションのシミュレーションから得られた荷重-変位データを用いて分析した。その結果,基板効果を除去したモデルの性能は,異なる試験パラメータ(膜の弾性率と基板の弾性率との比,押込み率,および降伏ひずみ)によって著しく変化することがわかった。本結果から,柔軟なフィルムのナノインデンテーションにおける基板効果除去の重要性が示された。

シソーラス用語： *基板 ,  剛性 ,  *薄膜 ,  柔軟性 ,  *ナノインデンテーション ,  弾性係数 ,  押込 ,  降伏 ,  歪 ,  *有限要素法 ,  弾塑性 ,  曲線 ,  荷重 ,  変位 ,  *効果 ,  *シミュレーション ,  *モデル
準シソーラス用語： 荷重-変位曲線 ,  *基板効果 ,  弾性率

分類 (2件)： 薄膜一般  (BK14010X) ,  破壊力学一般  (HC04010A)

タイトルに関連する用語 (2件)： ナノインデンテーション ,  モデル