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J-GLOBAL ID：201502207729274228   整理番号：15A1079109

酸処理WO₃H₂Oナノプレートに及ぼすアニーリングの影響およびそのエレクトロクロミック特性

Effect of annealing on acid-treated WO₃ H₂O nanoplates and their electrochromic properties

著者 (4件)： NG Chai Yan (School of Materials and Mineral Resources Engineering, Universiti Sains Malaysia, 14300 Nibong Tebal, Penang, Malaysia) ,  ABDUL Razak Khairunisak (School of Materials and Mineral Resources Engineering, Universiti Sains Malaysia, 14300 Nibong Tebal, Penang, Malaysia) ,  ABDUL Razak Khairunisak (NanoBiotechnology Res. and Innovation (NanoBRI), Inst. for Res. in Molecular Medicine (INFORMM), Universiti Sains ...) ,  LOCKMAN Zainovia (School of Materials and Mineral Resources Engineering, Universiti Sains Malaysia, 14300 Nibong Tebal, Penang, Malaysia)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 178  ページ： 673-681  発行年： 2015年10月01日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸処理された水和酸化タングステン(WO₃H₂O)ナノプレートのエレクトロクロミック特性に及ぼすアニーリング温度の影響を始めて報告された。ナノ構造体は,硝酸を用いてフッ素ドープ酸化スズ被覆ガラス基板上に成長し,アニール温度を100~400°Cにまで変化させた。調製されたナノプレートは,WO₃H₂Oであり,これらのナノプレートは,≧200°Cでのアニーリング後の酸化タングステン(WO₃)に形質転換した。ナノプレートの厚さは,調製したサンプルの12~55nmから400°Cでアニールしたサンプルの12~40nmにアニーリング温度の上昇と共に減少した。高い光変調(58%),良好なエレクトロクロミックサイクル安定性,ならびにそれぞれ~9.6および~5.1秒の短いイオン挿入抽出時間を有し最高のエレクトロクロミック特性を示した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化タングステン ,  *エレクトロクロミズム ,  酸処理 ,  ナノ構造 ,  焼なまし ,  結晶成長 ,  硝酸 ,  フッ素 ,  ドーピング ,  酸化スズ ,  基板 ,  電気装置部品 ,  安定性 ,  光変調 ,  形質転換
準シソーラス用語： アニーリング処理 ,  *エレクトロクロミック特性 ,  ナノプレート ,  ドープ ,  ガラス基板 ,  サイクル安定性

分類 (3件)： 金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  電気化学反応  (CB07050F) ,  その他の固体デバイス  (NC03150A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸処理 ,  ナノプレート ,  アニーリング ,  エレクトロクロミック特性