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J-GLOBAL ID：201502208166768268   整理番号：15A0788083

FeSe/SrTiO₃超薄膜における膜厚依存コヒーレントフォノン周波数

Thickness-Dependent Coherent Phonon Frequency in Ultrathin FeSe/SrTiO₃ Films

著者 (18件)： YANG Shuolong (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  YANG Shuolong (Stanford Univ., California, USA) ,  SOBOTA Jonathan A. (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  SOBOTA Jonathan A. (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  LEUENBERGER Dominik (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  LEUENBERGER Dominik (Stanford Univ., California, USA) ,  KEMPER Alexander F. (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  LEE James J. (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  LEE James J. (Stanford Univ., California, USA) ,  SCHMITT Felix T. (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  SCHMITT Felix T. (Stanford Univ., California, USA) ,  LI Wei (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  LI Wei (Stanford Univ., California, USA) ,  MOORE Rob G. (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  MOORE Rob G. (Stanford Univ., California, USA) ,  KIRCHMANN Patrick S. (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  SHEN Zhi-Xun (SLAC National Accelerator Lab., California, USA) ,  SHEN Zhi-Xun (Stanford Univ., California, USA)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 15  号： 6  ページ： 4150-4154  発行年： 2015年06月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SrTiO₃基板上に単位格子(UC)の数を1-UC,3-UC及び60-UCと変えたFeSe薄膜をMBE成長し,フェムト秒時間分解-角度分解光電子分光(trARPES)を用いて研究し,それぞれのFeSe膜の光電子スペクトル中に,ポンププローブ遅延の関数としてコヒーレントフォノン振動を観測した。このフォノン周波数は1-UC膜の5.00±0.02THzから60-UC膜の5.25±0.02THzに変化した。Raman散乱実験を用いてこのモードをSeのA_lgフォノンと同定し,密度汎関数計算により1-UC膜におけるフォノンのソフト化の主要な原因を基板誘起の格子歪に帰した。

シソーラス用語： *セレン化物 ,  *鉄化合物 ,  *超薄膜 ,  基板 ,  チタン酸ストロンチウム ,  *フォノン ,  ポンププローブ法 ,  角度分解分光法 ,  光電子分光法 ,  時間分解分光法
準シソーラス用語： *セレン化鉄

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  結晶中のフォノン・格子振動  (BL03020Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 超薄膜 ,  膜厚 ,  コヒーレント ,  フォノン周波数