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J-GLOBAL ID：201502208652982930   整理番号：15A0999988

高温無線周波数マグネトロンスパッタリングによって調製した透明で導電性のインジウムスズ酸化物/ポリイミドフィルム

Transparent and conductive indium tin oxide/polyimide films prepared by high-temperature radio-frequency magnetron sputtering

著者 (4件)： WEN Yu (Lab. of Advanced Polymer Materials, Inst. of Chemistry, Chinese Acad. of Sciences, Zhongguancun, Beijing, 100190, CHN) ,  LIU Huan (Lab. of Advanced Polymer Materials, Inst. of Chemistry, Chinese Acad. of Sciences, Zhongguancun, Beijing, 100190, CHN) ,  YANG Shiyong (Lab. of Advanced Polymer Materials, Inst. of Chemistry, Chinese Acad. of Sciences, Zhongguancun, Beijing, 100190, CHN) ,  FAN Lin (Lab. of Advanced Polymer Materials, Inst. of Chemistry, Chinese Acad. of Sciences, Zhongguancun, Beijing, 100190, CHN)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 132  号： 44  ページ： ROMBUNNO.42753  発行年： 2015年11月20日 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高透明性で熱的に安定なポリイミド(PI)基板を調製し,高温基板温度での無線周波数マグネトロンスパッタリングによってインジウムスズ酸化物(ITO)/PIフィルムの作製に用いた。堆積条件の効果,すなわち酸素供給速度,基板温度,スパッタリングパワー及び作動圧力がITO/PIフィルムの光学的及び電気的特性に及ぼす影響を微細構造の面から検討した。その結果,ITOの光学的,電気的特性は酸素に対して敏感であることが分かった。さらに堆積工程における高い基板温度,高いスパッタリングパワー及び低い作動圧力の採用がITOの導電性の改良に有効であった。厚いバルクITO層が,密な表面を有する薄いITOシード層の上に堆積することによって重なり合う2段階堆積法を開発して,透明性が高く,導電性のあるITO/PIフィルムを調製した。ITO/PIフィルムは240°Cでアニールすると,83%の透過率と19.7Ω/squareのシート抵抗を示した。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 高温 ,  周波数 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *透明材料 ,  *導体材料 ,  *酸化インジウムスズ ,  *ポリイミド ,  *プラスチックフィルム ,  微細構造 ,  酸素 ,  透光性 ,  電気抵抗率 ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  積層材料 ,  スパッタ蒸着
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング ,  無線周波数

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 無線周波数 ,  マグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  導電性 ,  インジウムスズ酸化物 ,  ポリイミドフィルム