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J-GLOBAL ID：201502208715857099   整理番号：15A0501395

欠陥のあるグラフェンにおける亀裂伝搬の閉じ込め

Confining Crack Propagation in Defective Graphene

著者 (3件)： LOPEZ-POLIN Guillermo (Universidad Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  GOMEZ-HERRERO Julio (Universidad Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  GOMEZ-NAVARRO Cristina (Universidad Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 15  号： 3  ページ： 2050-2054  発行年： 2015年03月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化ケイ素膜に施した種々の形状のナノ孔にPDMSスタンプを用いてグラフェン膜を移動・懸垂し,Arイオン照射処理により炭素単一欠陥を既知密度でグラフェン膜に分布し,AFM探針を用いたインデンテーション実験を行った。膜の破壊強度は欠陥密度とともに,無処理の時の~90Gpaから欠陥密度が飽和したように見える時の~50Gpaに急速に減少した。これらの結果によれば,破壊に対するGriffith基準はこのように小さい欠陥には適用できない。インデンテーション後のAFM,及びSEM像により,亀裂伝搬を調べ,原子的な欠陥の存在が裂け目の伝搬を閉じ込めることを示した。この結果を単層酸化グラフェンに対する類似の実験で確認し,この膜の部分的にアモルファスな性質のために,亀裂の伝搬はこれらの膜では極めて制限されることを明らかにした。

シソーラス用語： *点欠陥 ,  密度 ,  *亀裂伝搬 ,  イオン照射 ,  アルゴン ,  グラフェン ,  懸垂 ,  破壊強さ ,  ナノインデンテーション ,  酸化物 ,  *規制 ,  ポリジメチルシロキサン
準シソーラス用語： PDMS【重合体】 ,  酸化グラフェン ,  制限

分類 (2件)： その他の材料  (HC04050S) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 欠陥 ,  グラフェン ,  亀裂伝搬 ,  閉じ込め