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J-GLOBAL ID：201502209300158044   整理番号：15A1065258

UV硬化性ハイブリッド高分子を用いた3D光学部品の高精密製造へ向けて

Towards High Precision Manufacturing of 3D Optical Components Using UV-Curable Hybrid Polymers

著者 (5件)： SCHLEUNITZ A. (micro resist technology GmbH, Berlin, DEU) ,  KLEIN J. J. (micro resist technology GmbH, Berlin, DEU) ,  HOUBERTZ R. (Multiphoton Optics GmbH, Wuerzburg, DEU) ,  VOGLER M. (micro resist technology GmbH, Berlin, DEU) ,  GRUETZNER G. (micro resist technology GmbH, Berlin, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9368  ページ： 93680E.1-93680E.9  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微小光学素子の製造に適した高分子材料について展望し,これを用いた製造の現状と見通しを述べた。その材料は無機及び有機化合物の混成高分子であり,それぞれの優れた特徴(無機では透明性,熱及び化学的安定性,剛性,有機ではUV硬化性,機能化性,柔軟性)の融合により,広範囲の応用に適応した特性調整が可能である。中でもORMOCER系混成材料が理想的であることを示した。これらの材料を用いてUV支援複製法やナノ刷込複製法により,微小レンズや導波路などの大量生産が可能になっている。複雑な三次元構造の製作には,二光子吸収リソグラフィー法が有用で,その実例を示した。混成高分子材料は,チップレベル,特にシリコンフォトニクスにおける精密光学系の製造に有望な候補である。

シソーラス用語： *光架橋 ,  光学素子 ,  オプトエレクトロニクス ,  *配線 ,  *二光子吸収 ,  *フォトリソグラフィー ,  *高分子複合体 ,  インクジェット印刷
準シソーラス用語： *UV硬化 ,  シリコンフォトニクス ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  *光相互接続 ,  *ハイブリッド高分子

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： UV硬化 ,  ハイブリッド高分子 ,  3D ,  光学部品 ,  精密