文献
J-GLOBAL ID:201502209302451466   整理番号:15A1339691

パルスレーザー蒸着法による(K,Na)NbO3薄膜の作製

著者 (2件):
資料名:
巻: 27  号:ページ: 56-62  発行年: 2015年12月01日 
JST資料番号: L2344A  ISSN: 0916-2410  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
圧電薄膜はセンサやアクチュエータなどに使われている。近年では振動を利用した環境発電デバイスの試作も行われておりその重要性が高まっている。現在圧電体として主にPb(Zr,Ti)O3(PZT)が用いられているが,PZTは鉛を含むため環境負荷が大きい。ペロブスカイト構造を有する(K,Na)NbO3は非鉛圧電材料の1つである。(KxNa1-x)NbO3の圧電特性はKの固溶量xにより変化する。本稿では(KxNa1-x)NbO3ターゲットを用い,パルスレーザ蒸着法によりSrRuO3/(001)SrTiO3基板上に形成した(K,Na)NbO3膜の結晶構造や電気物性について報告した。X線回折より,Kの固溶量の増加に伴う(K,Na)NbO3の結晶系の変化は,バルクセラミックスと基本的に同じ傾向を持つことが明らかとなった。(K,Na)NbO3膜はすべて強誘電体に特徴的なP-Eループを示し,残留分極はx=0.5で最大約40μC/cm2になった。一般的な現象論から残留分極が大きいほど圧電特性が大きくなることが知られていることから,この組成近傍で大きな圧電特性が期待される。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
圧電気,焦電気,エレクトレット  ,  酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る