文献

J-GLOBAL ID：201502209319332150   整理番号：15A1315789

VUV(真空紫外線)外部集束機構の応用:VUV(真空紫外線)から軟X線までの高性能デュアルモードモノクロメータ

Applications of VUV extra-focus mechanism: high-performance dual-mode monochromator from VUV to soft X-ray

著者 (7件)： XUE Chaofan (Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai ...) ,  WU Yanqing (Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai ...) ,  ZOU Ying (Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai ...) ,  XUE Lian (Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai ...) ,  GUO Zhi (Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai ...) ,  WANG Yong (Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai ...) ,  TAI Renzhong (Shanghai Inst. of Applied Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai ...)
資料名： Journal of Synchrotron Radiation  (Journal of Synchrotron Radiation)
巻： 22  号： 6  ページ： 1353-1358  発行年： 2015年11月01日 
JST資料番号： W0763A  ISSN： 0909-0495  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： VUV ,  真空紫外線 ,  集束 ,  応用 ,  軟X線 ,  高性能