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J-GLOBAL ID：201502209337379415   整理番号：15A0802675

迅速室温自己治癒性能を持った二元スルフィド-ジスルフィド橋架けネットワーク構造

Dual Sulfide-Disulfide Crosslinked Networks with Rapid and Room Temperature Self-Healability

著者 (4件)： AN So Young (Dep. of Chemistry and Biochemistry, Centre for NanoScience Res., Concordia Univ., Montreal, Quebec, Canada, H4B 1R6) ,  NOH Seung Man (Res. Center for Green Fine Chemicals, Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Ulsan, 681-310, KOR) ,  NAM Joon Hyun (Res. Center for Green Fine Chemicals, Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Ulsan, 681-310, KOR) ,  OH Jung Kwon (Dep. of Chemistry and Biochemistry, Centre for NanoScience Res., Concordia Univ., Montreal, Quebec, Canada, H4B 1R6)
資料名： Macromolecular Rapid Communications  (Macromolecular Rapid Communications)
巻： 36  号： 13  ページ： 1255-1260  発行年： 2015年07月 
JST資料番号： D0314B  ISSN： 1022-1336  CODEN： MRCOE3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固有の自己修復能力を持ったポリマ系架橋ネットワーク構造が物理的損傷を修復する生まれつきの能力で出現していることが分かった。ここでは,新しい二元スルフィド-ジスルフィド橋架けネットワーク構造(s-ssPxNs)が数分内に,外部治癒剤無しで,いかなる環境条件の変化なしに迅速に室温で自己治癒性能を示すことを報告する。これらの自己修復ネットワーク構造を合成する方法はよく知られた架橋化学の結び付きを利用している。その架橋化学は光誘導チオールエンクリック型ラジカル付加,過剰チオールによる弱くスルフィド架橋したポリスルフィド系ネットワーク構造の生成,及びそれらの酸化で,二元s-ssPxNsを得るために動的ジスルフィド架橋構造が発生している。生成したs-ssPxNネットワークは可逆的粘弾性を持った自己修復弾性体と同様に,室温で30秒から30分以内に自己修復を示すことが分かった。調製可能な自己修復速度と結び付いたこれらの結果は有用な多機能性ポリマ素材の合成の新しい手段として活用できることが分かった。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 再生 ,  *回復 ,  スルフィド ,  ジスルフィド ,  架橋【高分子】 ,  ネットワーク構造 ,  ラジカル反応 ,  付加反応 ,  チオール ,  粘弾性 ,  反応速度 ,  *機能性高分子 ,  複合材料 ,  顕微鏡観察 ,  熱重量分析 ,  FTIR分光法

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 室温 ,  自己治癒 ,  スルフィド ,  ジスルフィド ,  橋架け ,  ネットワーク構造