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J-GLOBAL ID：201502209467022144   整理番号：15A1245079

高速高アスペクト比表面撚線用の直接レーザビーム干渉パターン形成技術

Direct Laser Beam Interference Patterning Technique for Fast High Aspect Ratio Surface Structuring

著者 (4件)： INDRISIUNAS Simonas (Center for Physical Sci. and Technol., Vilnius, LTU) ,  VOISIAT Bogdan (Center for Physical Sci. and Technol., Vilnius, LTU) ,  ZUKAUSKAS Airidas (Center for Physical Sci. and Technol., Vilnius, LTU) ,  RACIUKAITIS Gediminas (Center for Physical Sci. and Technol., Vilnius, LTU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9350  ページ： 935003.1-935003.7  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微細周期構造の製作は様々な分野で必要とされる。直接レーザビームアブレーションは表面組織化の極めて柔軟な方法であるが,アスペクト比に限界があることが大きな欠点である。本研究では,この欠点を解決するための直接レーザビーム干渉パターン形成(DLIP)技術を示した。本方法は複数のビームの干渉を利用して材料を直接溶発させる。この方法はビームスポットの大きさに制限されないサブ波長パターンを作製でき,僅か一度のレーザショットで比較的大面積にわたって二次元の周期構造を効果的に作製できる。

シソーラス用語： アスペクト比 ,  レーザアブレーション ,  *パターン形成 ,  *レーザビーム ,  光干渉 ,  *光干渉法 ,  顕微鏡観察 ,  波長 ,  微細構造 ,  サブ波長
準シソーラス用語： レーザ干渉 ,  *レーザ干渉法

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高アスペクト比 ,  撚線 ,  レーザビーム ,  干渉パターン