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J-GLOBAL ID:201502210006085036   整理番号:15A0322310

マイクロナノバブル水分散フリーダイヤモンド研摩材でのぜい性材料の正確な機械研摩

Precise mechanical polishing of brittle materials with free diamond abrasives dispersed in micro-nano-bubble water
著者 (10件):
資料名:
巻: 40  ページ: 81-86  発行年: 2015年04月 
JST資料番号: A0734B  ISSN: 0141-6359  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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溶液としてマイクロナノバブル(MNB水)を含む水の使用の影響を研究した。ここでは,0.5μmの平均直径のダイヤモンドの研摩材が,GaN膜のぜい性材料の正確な機械研摩(PMP)に使用される研磨スラリーのために分散される。MNB水において,研摩材の少ない数のクラスタの生成が見られたが,研摩材は,基本的によく分散された。エチレングリコールなどの分散エージェントでの純水の中におけるそれにほとんど匹敵していた。凝集が純水の中の分散に関して分散エージェントの追加なしで観測されたので,MNBsにはマイクロ研摩粒子のための分散効果があるのがわかった。MNB水ベースの研磨スラリーでのGaN基板の研磨特性に関して,追加表面も表面下劣化もなしに,除去率の顕著な増加が観測された。さらに,GaN基板の化学的に弱いN表面に関してかなり減少したサブ表面損傷(SSD)を観測した。これらの観測された影響は,最もたぶん,MNB水におけるクラスタ形成の結果と気泡崩壊による高いエネルギー発生と関連した化学的効果であることを,それぞれ示唆された。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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