文献
J-GLOBAL ID:201502210157628865   整理番号:15A1038559

スパッタ蒸着したNbx-CoCrCuFeNi高エントロピー合金薄膜の構造形成と特性

Structure formation and properties of sputter deposited Nbx-CoCrCuFeNi high entropy alloy thin films
著者 (2件):
資料名:
巻: 646  ページ: 810-815  発行年: 2015年10月15日 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
異なるニオブ濃度の高エントロピー合金Nbx-CoCrCuFeNiの薄膜をマグネトロンスパッタリングによって蒸着した。ニオブを含まない(x=0)薄膜の膜密度及び残留応力は,より高い圧力-距離の製品では明らかに減少した。この現象はスパッタ原子の運動量移動によってだけ説明することができ,到着原子当たりのエネルギーとしての成長膜上の反射Ar原子は殆ど変化を示さなかった。合金中の最も重い原子であるNbの添加は,この効果を増幅した。したがって,高Nb含有量の薄膜が依然として大きな圧力-距離の製品で高い密度を示した。しかし,Nbが全ての構成元素の中で最大の半径を有するので,薄膜の結晶学的構造はx=0での結晶面心立方構造から,Nbの高い場合には,非晶質(又はナノ結晶)構造に変化した。変化する蒸着条件およびニオブ含有量という両方の傾向は,薄膜の微小歪の研究によって概説できた。固有の特性で観察された傾向は,いくつかの機能的特性(摩擦係数,熱安定性及び接触抵抗)の予備的研究と相関している。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属薄膜 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る