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J-GLOBAL ID：201502210215692978   整理番号：15A1314279

超多孔性ナノ結晶TiO₂ベースの膜:合成,パターン形成と反射防止,自己クリーニング,超親水性被覆としての応用

Ultraporous nanocrystalline TiO₂-based films: synthesis, patterning and application as anti-reflective, self-cleaning, superhydrophilic coatings

著者 (5件)： FAUSTINI Marco (Sorbonne Universites, UPMC Univ Paris 06, CNRS, Coll. de France, UMR 7574, Chimie de la Matiere Condensee de Paris ...) ,  GRENIER Antonin ,  NAUDIN Guillaume ,  LI Ronghua ,  GROSSO David
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 7  号： 46  ページ： 19419-19425  発行年： 2015年12月14日 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1.27まで低い屈折率,最大80vol%までの多孔率および最大1.5μmまでの厚さ可変のクラックがないアナターゼ系光学コーティング膜を作製した。熱誘起による結晶化とテンプレート除去における多孔率の並外れた安定性は,無機相中に含まれる10%モルのシリカの存在,500°Cでのフラッシュ処理,並びに,数ナノメートルから50nmまでの範囲のさまざまな大きさのテンプレート利用による複合効果に起因していた。階層的な多孔系を,UVリソグラフィによって直接パターン形成して,多機能性の反射防止セルフクリーニング被覆膜として用いた。Copyright 2016 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *ナノ結晶 ,  *酸化チタン ,  *多孔性 ,  *親水性 ,  *被覆 ,  化学合成 ,  *パターン形成 ,  *反射防止膜 ,  *自浄作用 ,  二酸化ケイ素 ,  鋳型効果 ,  階層構造 ,  リソグラフィー
準シソーラス用語： 超多孔性 ,  超親水性 ,  自己クリーニング ,  シリカ ,  紫外線リソグラフィー

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 多孔性 ,  ナノ結晶 ,  TiO2 ,  パターン形成 ,  反射防止 ,  自己クリーニング ,  親水性 ,  応用