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J-GLOBAL ID：201502210220519761   整理番号：15A1233431

かさ高い単座アリールオキシド配位子を有する4族遷移金属錯体の合成と二酸化炭素の還元反応

著者 (2件)： 松尾司 ,  金澤渉也
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集  (触媒討論会(A)講演予稿集)
巻： 116th  ページ： 148  発行年： 2015年09月09日 
JST資料番号： S0874A  ISSN： 1343-9936  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 我々は,五員環と六員環が縮環したヒドロインダセン骨格をもつ汎用性立体保護基であるRind基を用いて,低配位構造を有する典型元素化合物や遷移金属錯体について研究している。本研究では,Rind基を有するかさ高い単座アリールオキシド配位子を用いた4族遷移金属カチオン性錯体を触媒とする二酸化炭素の還元反応について検討を行なった。(著者抄録)

シソーラス用語： *酸化物 ,  *配位子 ,  *ジルコニウム錯体 ,  *チタン錯体 ,  錯体生成 ,  *二酸化炭素 ,  *触媒 ,  *接触還元 ,  シラン ,  分子構造 ,  配位子効果 ,  有機ケイ素化合物
準シソーラス用語： *オキサイド

分類 (4件)： 不均一系触媒反応  (CB06100E) ,  第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U) ,  酸化,還元  (CF02060T) ,  有機けい素化合物  (CF08030C)

物質索引 (1件)： 1,1,3,3,5,5,7,7-オクタエチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロ-s-インダセン-4-オール

タイトルに関連する用語 (5件)： かさ ,  配位子 ,  遷移金属錯体 ,  二酸化炭素 ,  還元反応