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J-GLOBAL ID：201502210555463639   整理番号：15A0883181

ATR-FTIRを用いた膜での被覆厚の簡易評価

Facile evaluation of coating thickness on membranes using ATR-FTIR

著者 (2件)： BASS Maria (Technion - Israel Inst. of Technol., Wolfson Dep. of Chemical Engineering, Haifa 32000, ISR) ,  FREGER Viatcheslav (Technion - Israel Inst. of Technol., Wolfson Dep. of Chemical Engineering, Haifa 32000, ISR)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 492  ページ： 348-354  発行年： 2015年10月15日 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,全反射減衰Fourier変換赤外(ATR-FTIR)分光法に基づく基板での薄被覆層の厚さの簡易評価法を紹介した。このアプローチは各種の基板の数mμ厚までの高分子被覆の平均厚を迅速かつ簡単に評価することを可能にし,被覆と基板材料の屈折率と消光係数は無関係に決定される。方法は,数cm²までの実質的に意味のある領域にわたる平均厚を与える。例えば,表面修飾または汚損基板を研究するために有用であり,粗基板での非均一または斑状被覆に適用可能である。その有用性を,低ファウリング高分子の薄層でグラフトしたナノ濾過膜と限外濾過膜に対して実証した。明確に定義されたスピン被覆NFおよびUF膜試料について電子顕微鏡によって測定したものとATR-FTIR厚を比較することによって,本法を検証した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ATR分光法 ,  FTIR分光法 ,  表面分析 ,  *被覆層 ,  *層厚 ,  屈折率 ,  係数 ,  選択透過膜 ,  *高分子分離膜 ,  ナノ濾過 ,  限外濾過 ,  グラフト化【化学修飾】 ,  表面改質 ,  評価
準シソーラス用語： ATR-FTIR ,  ナノ濾過膜 ,  限外濾過膜 ,  消光係数

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： ATR-FTIR ,  被覆厚 ,  簡易 ,  評価