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J-GLOBAL ID：201502210558887154   整理番号：15A1339109

グラフェン酸化物グラフト四級化キトサンナノハイブリッド電極被覆による水の高性能容量性脱イオン殺菌

High-Performance Capacitive Deionization Disinfection of Water with Graphene Oxide-graft-Quaternized Chitosan Nanohybrid Electrode Coating

著者 (15件)： WANG Yilei (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  EL-DEEN Ahmed G. (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  LI Peng (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  LI Peng (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN) ,  OH Bernice H.L. (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  GUO Zanru (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  KHIN Mya Mya (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  VIKHE Yogesh S. (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  WANG Jing (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  HU Rebecca G. (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  BOOM Remko M. (Wageningen Univ., Wageningen, NLD) ,  KLINE Kimberly A. (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  BECKER David L. (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  DUAN Hongwei (Nanyang Technological Univ., Singapore) ,  CHAN-PARK Mary B. (Nanyang Technological Univ., Singapore)
資料名： ACS Nano  (ACS Nano)
巻： 9  号： 10  ページ： 10142-10157  発行年： 2015年10月 
JST資料番号： W2326A  ISSN： 1936-0851  CODEN： ANCAC3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェン酸化物グラフト四級化キトサン(GO-QC)のカチオン性ナノハイブリッドを持つ活性炭素(AC)電極の被覆により作られた高性能容量性脱イオン殺菌(CDID)電極を示した。このGO-QC/AC CDIDは,CDIDシェルを通じた連続的に流れる水における大腸菌の99.9999%殺菌を達成できた。GO-QC被覆なしのAC電極のみでは殺菌できず,同じ汚染水から大腸菌の一部のみを吸着した。

シソーラス用語： *グラフェン ,  *酸化物 ,  グラフト化【化学修飾】 ,  四級化 ,  *キトサン ,  *ナノ構造 ,  ハイブリッド複合材料 ,  *電極 ,  *脱イオン水 ,  *殺菌 ,  高分子電解質 ,  活性炭 ,  水 ,  大腸菌 ,  汚染 ,  吸着 ,  汚染水
準シソーラス用語： カチオン性高分子 ,  *グラフェン酸化物 ,  *ナノハイブリッド ,  活性炭素

分類 (6件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  多糖類  (CF10054P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の電気・電子部品  (NA05090R) ,  水質管理  (SB02050M) ,  病原体作用薬一般  (GW17010H)

タイトルに関連する用語 (7件)： グラフェン酸化物 ,  グラフト ,  四級化 ,  水 ,  高性能 ,  容量性脱イオン ,  殺菌