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J-GLOBAL ID：201502210787740531   整理番号：15A1268595

疑似アルカリ隙間環境,300°Cにおける合金800の硫黄誘起不動態破壊の機構の研究

A mechanistic study of sulfur-induced passivity degradation of Alloy 800 in a simulated alkaline crevice environment at 300 °C

著者 (5件)： XIA Da-Hai (Univ. of Alberta, Dep. of Chemical and Materials Engineering, T6G 2V4, Edmonton, Alberta, CAN) ,  BEHNAMIAN Yashar (Univ. of Alberta, Dep. of Chemical and Materials Engineering, T6G 2V4, Edmonton, Alberta, CAN) ,  CHEN Xue-Yuan (Univ. of Alberta, Dep. of Chemical and Materials Engineering, T6G 2V4, Edmonton, Alberta, CAN) ,  LUO Jing-Li (Univ. of Alberta, Dep. of Chemical and Materials Engineering, T6G 2V4, Edmonton, Alberta, CAN) ,  KLIMAS Stan (The Canadian Nuclear Laboratories Chalk River Laboratories, Stn. 80, K0J 1J0, Chalk River, Ontario, CAN)
資料名： Journal of Solid State Electrochemistry  (Journal of Solid State Electrochemistry)
巻： 19  号： 12  ページ： 3567-3578  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： W1021A  ISSN： 1432-8488  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 疑似アルカリ隙間(AKC)環境,300°Cにおいて,合金800の硫黄誘起不動態膜の破壊を電気化学的インピーダンススペクトル法(EIS),走査電子顕微鏡(SEM),二次イオン質量分析法(SIMS),X線光電子スペクトル法(XPS),およびオージェスペクトル法(AES)により評価した。チオ硫酸から還元された硫黄化学種(主としてS^-2)が不動態膜に取り込まれ,膜中のNi/Cr比を増加させる。膜厚は,チオ硫酸無しのアルカリ隙間溶液中における700nmから,チオ硫酸の存在するAKC溶液中における400nmまで減少した。電気化学的等価回路(EEC)と点欠陥モデル(PDM)を用いるEISモデリングの結果もまた,還元硫黄化学種が不動態膜の溶解速度を増加させることを確認した。Copyright 2015 Springer-Verlag Berlin Heidelberg Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化 ,  *不動態 ,  *インコロイ ,  二次イオン質量分析 ,  Augerスペクトル ,  チオ硫酸 ,  ニッケル合金 ,  クロム合金 ,  溶解速度 ,  インピーダンススペクトル ,  等価回路 ,  点欠陥 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線光電子スペクトル
準シソーラス用語： *合金800 ,  *硫黄酸化

分類 (2件)： 腐食基礎理論,腐食試験  (WB03020Q) ,  金属,合金の電気分析  (CC05040J)

タイトルに関連する用語 (8件)： アルカリ ,  環境 ,  合金800 ,  硫黄 ,  誘起 ,  不動態 ,  破壊 ,  研究