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J-GLOBAL ID：201502210791669965   整理番号：15A1399566

塩素イオンを含有する電界液中のAl孔食の密度関数理論

Density-functional theory investigation of Al pitting corrosion in electrolyte containing chloride ions

著者 (5件)： LIU Min (National Center for Materials Serv. Safety, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing 100083, CHN) ,  JIN Ying (National Center for Materials Serv. Safety, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing 100083, CHN) ,  ZHANG Chuanhui (National Center for Materials Serv. Safety, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing 100083, CHN) ,  LEYGRAF Christofer (Div. of Surface and Corrosion Sci., Dep. of Chemistry, KTH Royal Inst. of Technol., SE-10044 Stockholm, SWE) ,  WEN Lei (National Center for Materials Serv. Safety, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing 100083, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 357  号： PB  ページ： 2028-2038  発行年： 2015年12月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルミニウム(Al)の孔食をもたらす基本的プロセスの分子的理解を深めるために,密度汎関数理論計算により,Al(111)面上の塩素イオン(Cl^-)と酸素種(酸素原子,Oまたは酸素分子,O₂)の挙動を調べた。最初に,個々の種,Cl^-,O原子およびO₂の吸着挙動を明らかにした。その後,いろいろな孔食の段階での三つの考えられるシナリオについてモデル化して,Cl^-を含む中性電解液中のAlの再不動態化および溶解を探った。シナリオiでは,Cl^-は,Al(111)表面上のO-単層でさえ壊すことはほとんどできないが,Al-O結合の伸びや第1のAl層とその後のAl層との間の結合を弱体化をもたらすかもしれないことを見出した。シナリオiiでは,O₂とCl^-の両方をAl(111)に導入した。結果は,Al-O相互作用の弱体化とAl3pとCl^-3p間のー0.18Haにある強い混成ピークを示したが,これはこの条件下でのAlの不十分な再不動態化挙動を示唆する。最後に,シナリオiiiでは,Alに形成されたピットのいろいろな局所的環境条件を再現した。Cl^-被覆率が低い場合,塩素イオンは表面緩和にほとんど影響を及ぼさなかった。Cl^-被覆率が増すと,塩素イオンとAl表面の間の相互作用はより強くなった。被覆率が単層の2/3MLよりも大きい場合,表面Al原子は徐々に溶解し,AlCl₃やAl₂Cl₅のような下部構造が形成された。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アルミニウム ,  *孔食 ,  *イオン ,  *電解液 ,  *密度汎関数法 ,  酸素 ,  吸着 ,  不動態化 ,  溶解 ,  表面緩和 ,  被覆率 ,  相互作用 ,  状態密度 ,  配列
準シソーラス用語： *塩素イオン ,  *密度関数理論 ,  再不動態化 ,  界面相互作用 ,  部分状態密度 ,  原子配列

分類 (1件)： 腐食  (WB03030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 塩素イオン ,  電界 ,  液中 ,  Al ,  孔食 ,  密度関数理論