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J-GLOBAL ID:201502210869679075   整理番号:15A1005309

ギ酸誘導体を一酸化炭素源として用いる実用的有機合成

Practical Synthetic Methods Utilizing Formic Acid Derivatives as Carbon Monoxide Sources
著者 (2件):
資料名:
巻: 73  号:ページ: 911-922  発行年: 2015年09月01日 
JST資料番号: F0383A  ISSN: 0037-9980  CODEN: YGKKAE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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毒性があり,取り扱いに高圧設備が必要な一酸化炭素ガスの代わりに,様々な一酸化炭素生成能をもつ化合物が検討されているが,生成には,遷移金属触媒,高熱,強酸,強塩基等過酷な条件が必要となる。本研究では,温和な条件で一酸化炭素が生成可能なギ酸誘導体を用いた合成反応を検討した。ぎ酸フェニルを原料とするパラジウム触媒を用いたブロモベンゼンのカルボニル化によって高収率で対応するフェニルエステルが得られた。また,電子吸引基の塩素で置換した2,4,6-トリクロロフェニルぎ酸を用いると室温で反応可能であった。一方,カルボニル化と同時に求核試薬によって芳香族アルデヒド,芳香族カルボン酸誘導体を合成する場合は,求核性の低いN-ホルミルサッカリンを用いることで副反応のアリールエステル生成を防止可能であった。本手法は,環状カルボニル化合物合成にも応用可能である。
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引用文献 (45件):
  • 1) (a) T. Morimoto, K. Kakiuchi, Angew. Chem. Int. Ed., 43, 5580 (2004)
  • (b) L. Wu, Q. Liu, R. Jackstell, M. Beller, Angew. Chem. Int. Ed., 53, 6310 (2014)
  • (c) L. R. Odell, F. Russo, M. Larhed, Synlett, 2012, 685
  • 2) Rh触媒を用いる例: (a) T. Okano, T. Kobayashi, H. Konishi, J. Kiji, Tetrahedron Lett., 23, 4967 (1982)
  • (b) C. M. Beck, S. E. Rathmill, Y. J. Park, J. Chen, R. H. Crabtree, L. M. Liable-Sands, A. L. Rheingold, Organometallics, 18, 5311 (1999)
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