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J-GLOBAL ID：201502211258766912   整理番号：15A1399569

パルスレーザ蒸着のフリップオーバー効果 それは背景ガス圧力と関係があるか?

The flip-over effect in pulsed laser deposition: Is it relevant at high background gas pressures?

著者 (5件)： OJEDA-G-P Alejandro (Paul Scherrer Inst., General Energy Res. Dep., 5232 Villigen-PSI, CHE) ,  SCHNEIDER Christof W. (Paul Scherrer Inst., General Energy Res. Dep., 5232 Villigen-PSI, CHE) ,  DOEBELI Max (Ion Beam Physics, ETH Zurich, CH-8093 Zurich, CHE) ,  LIPPERT Thomas (Paul Scherrer Inst., General Energy Res. Dep., 5232 Villigen-PSI, CHE) ,  WOKAUN Alexander (Paul Scherrer Inst., General Energy Res. Dep., 5232 Villigen-PSI, CHE)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 357  号： PB  ページ： 2055-2062  発行年： 2015年12月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ蒸着では,非1:1のアスペクト比をもつ矩形または楕円形のビームスポットの使用により,いわゆるフリップオーバー効果が生じる。ここで,レーザスポットの最長寸法は,プラズマプルームの広がりの最短方向をもたらす。この効果は,主に単一元素ターゲットの真空蒸着について報告されており,ビームスポットのアスペクト比が大きい場合に特に顕著である。La_0.4Ca_0.6MnO₃のターゲットを用いたパルスレーザ蒸着で堆積した物質の厚さ依存性を角度の関数として測定することにより,真空中および3つの関連する背景ガス圧力におけるフリップオーバー効果を調べた。膜の厚みと組成は,ラザフォード後方散乱により決定し,アルゴンを用いてプラズマ中の余計な化学反応の影響を低減した。結果は,圧力が最も高い,すなわち1×10^-1mbar,そこでは膜厚が全ての角度に対して一定であったが,これを除くすべての圧力においてフリップオーバー効果が現れることを示した。組成分布は,背景ガス圧力,角度位置,およびレーザスポット寸法に依存して,ターゲット材料に対して30%に達する顕著な組成の変化を示した。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  *レーザビーム ,  *気体 ,  *圧力 ,  *プルーム ,  アスペクト比 ,  ランタン化合物 ,  マンガン酸塩 ,  膜厚 ,  Rutherford後方散乱 ,  分布 ,  角分布 ,  角度依存性
準シソーラス用語： *ビーム形状 ,  *雰囲気ガス ,  気体圧力 ,  *プラズマプルーム ,  組成分布 ,  角度分布

分類 (3件)： 反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルスレーザ蒸着 ,  背景 ,  ガス圧力