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J-GLOBAL ID:201502211695693630   整理番号:15A1225478

高分子マトリックス中の酸化グラフェンのin situ系ヨードアルカン還元: 導電性材料の作製に用いる容易で効果的なアプローチ

In situ iodoalkane-reduction of graphene oxide in a polymer matrix: an easy and effective approach for the fabrication of conductive composites
著者 (9件):
資料名:
巻:号: 43  ページ: 11531-11539  発行年: 2015年11月21日 
JST資料番号: W2383A  ISSN: 2050-7526  CODEN: JMCCCX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高分子マトリックス中に分散された酸化グラフェン(GO)のin situ系化学還元(ISCR)を,高分子マトリックス中のGOの完全分散とグラフェンの高電気伝導率の組合せに起因した電気的に導電性のグラフェン/高分子複合材料を製作する効果的な経路と考慮した。しかしながら,グラフェン/高分子の製作に用いるISCR過程に採用できる還元剤は非常に限られた僅かな数である。本稿で,高効率還元剤の1,2-ジヨードエタンを報告したが,これを,ISCR過程を経てグラフェン(IGO)/ポリイミド(PI)複合材料で利用できた。その結果,IGOの2.5重量%でIGO/PI複合材料の電気伝導率は2.22S m-1で,1,2-ジヨードエタンを添加しないGO/PIの場合よりも七桁近く大きなものであることが分かった。更に,IGO/PI複合材料の引張強度や弾性率を,純粋なPIの値と比較してそれぞれ43%および52%増加させた。加えて,1,2-ジヨードエタンやその分解生成物は,複合材料中に残存しなかった。ISCRベースの方法論を多くの他の高分子複合材料に拡張できるので,導電性高分子材料の簡便で効果的な作製のための方法への道を開いた。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST
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分類 (6件):
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導体材料  ,  炭素とその化合物  ,  脂肪族カルボン酸エステル・カルボン酸無水物・酸ハロゲン化物・アシルペルオキシド  ,  反応操作(単位反応)  ,  電気物性一般  ,  固体の機械的性質一般 
物質索引 (1件):
物質索引
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