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J-GLOBAL ID：201502211745739912   整理番号：15A0939113

分子自己集合を経由したRu(0001)上グラフェンのボトムアップ製造

Bottom-up fabrication of graphene on Ru(0001) via molecular self-assembly

著者 (11件)： CAI Yiliang (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  CAI Yiliang (Nanjing Univ., Nanjing, CHN) ,  ZHANG Hanjie (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  ZHANG Hanjie (Nanjing Univ., Nanjing, CHN) ,  SONG Junjie (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  SONG Junjie (Nanjing Univ., Nanjing, CHN) ,  ZHANG Yuxi (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  ZHANG Yuxi (Nanjing Univ., Nanjing, CHN) ,  REHMAN A U (Univ. Agriculture, Faisalabad, PAK) ,  HE Pimo (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  HE Pimo (Nanjing Univ., Nanjing, CHN)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 26  号： 29  ページ： 295601,1-8  発行年： 2015年07月24日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿では,Ru(0001)上グラフェンの分子自己集合に基づくボトムアップ製造プロセスについて報告した。2×10^-10 mbarより大きいベース圧力で多機能超高真空(UHV)VT-SPM装置を用いて,Ru(0001)上にp-テルフェニルを分子線エピタクシー堆積した。得られた膜について,室温において定電流モードで走査トンネル顕微鏡による特徴づけを行った。SIESTAパッケージを用いて,第一原理計算を実施し,Troullier-Martins擬ポテンシャルを用いて,原子コアを記述した。450°Cアニール後,吸着p-テルフェニル分子と共存する脱水素化p-テルフェニル分子から黒鉛フレークを形成し,480°Cアニール後,エピタキシャルグラフェンの形成をもたらした。単一及び2分子吸着量に対するDFT計算結果は,分子間相互作用が,p-テルフェニルの吸着を安定化し,吸着エネルギーを増加させることを示していた。

シソーラス用語： *グラフェン ,  *自己集合 ,  意思決定 ,  *生産工程 ,  *MBE成長 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  計算 ,  ポテンシャル ,  グラファイト ,  吸着 ,  密度汎関数法 ,  ルテニウム ,  芳香族炭化水素
準シソーラス用語： *ボトムアップ ,  擬ポテンシャル ,  黒鉛 ,  自己集合化 ,  製造プロセス ,  走査トンネル顕微鏡 ,  第一原理計算 ,  分子線エピタクシー ,  密度汎関数理論

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  吸着の電子論  (CB12042Y)

物質索引 (1件)： p-テルフェニル

タイトルに関連する用語 (5件)： 分子 ,  自己集合 ,  Ru ,  グラフェン ,  ボトムアップ