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J-GLOBAL ID：201502211758039600   整理番号：15A1379297

光触媒におけるヘテロ原子ドープグラフェン:展望

Heteroatom doped graphene in photocatalysis: A review

著者 (4件)： PUTRI Lutfi Kurnianditia (Chemical Engineering Discipline, School of Engineering, Monash Univ., Jalan Lagoon Selatan, Bandar Sunway, 47500 ...) ,  ONG Wee-Jun (Chemical Engineering Discipline, School of Engineering, Monash Univ., Jalan Lagoon Selatan, Bandar Sunway, 47500 ...) ,  CHANG Wei Sea (Mechanical Engineering Discipline, School of Engineering, Monash Univ., Jalan Lagoon Selatan, Bandar Sunway, 47500 ...) ,  CHAI Siang-Piao (Chemical Engineering Discipline, School of Engineering, Monash Univ., Jalan Lagoon Selatan, Bandar Sunway, 47500 ...)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 358  号： PA  ページ： 2-14  発行年： 2015年12月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光触媒は有害汚染物を除き,維持可能なエネルギーを発生するというようなその有用な環境応用の故に多大な注意を集めてきた。2次元炭素同素体であるグラフェンは偶然にもその卓越した性質-光触媒は例外ではない-の故に多くの研究分野にもまた浸透してきた。現在では,グラフェンへのヘテロ原子(O,N,B,P,S)ドーピングとその成長する応用機会に研究が集中しつつある。この研究で我々は,光触媒システムに通常集積される電子輸送媒体としての馴染あるグラフェンよりも,ヘテロ原子ドープグラフェンの意味付けと光触媒におけるそれらの先進的利用の背後にある基本機構を探求した。この展望は文献調査を行い,光触媒場面における化学的にドープされたグラフェンの開発における最近の発展と挑戦課題に光を当てた。この展望が新たに芽を吹きつつある分野における発展に対する知識を促進し,更なる研究を勇気付けることを望む。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *光触媒 ,  原子 ,  *グラフェン ,  技術展望 ,  *酸素 ,  *窒素 ,  *ホウ素 ,  *リン ,  *硫黄 ,  ドーパント ,  *ドーピング ,  *バンド構造 ,  Fermi準位 ,  半導体材料 ,  PN接合 ,  酸化物 ,  還元 ,  *バンドギャップ ,  電気伝導率
準シソーラス用語： Dirac点 ,  ヘテロ原子 ,  *化学ドーピング ,  還元酸化グラフェン ,  酸化グラフェン

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  半導体結晶の電子構造  (BM02060N)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光触媒 ,  ヘテロ原子 ,  展望