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J-GLOBAL ID：201502211918582216   整理番号：15A1044590

Pulsed laser deposition法を用いた平坦なLiHエピタキシャル薄膜成長

著者 (9件)： 大口裕之 (東北大 大学院) ,  大口裕之 (東北大 μSIC) ,  礒部繁人 (北大 創成研究機構) ,  礒部繁人 (北大 大学院) ,  白木将 (東北大 AIMR) ,  桑野博喜 (東北大 大学院) ,  折茂慎一 (東北大 AIMR) ,  折茂慎一 (東北大 金属材料研) ,  一杉太郎 (東北大 AIMR)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.13P-2Q-11  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  リチウム化合物 ,  *水素化物 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  エピタクシー ,  水素化リチウム
準シソーラス用語： エピタキシャル成長

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： LASER ,  LiH ,  エピタキシャル ,  薄膜成長