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J-GLOBAL ID：201502211979013230   整理番号：15A1164697

イオンビームスパッタリングプロセスにおける磁場分離に向かって

Towards a magnetic field separation in Ion Beam Sputtering processes

著者 (7件)： MALOBABIC Sina (Laser Zentrum Hannover e.V., Hollerithallee 8, 30419 Hannover, DEU) ,  MALOBABIC Sina (Quest: Centre of Quantum Engineering and Space-Time Res., Leibniz Universitaet Hannover, DEU) ,  JUPE Marco (Laser Zentrum Hannover e.V., Hollerithallee 8, 30419 Hannover, DEU) ,  JUPE Marco (Quest: Centre of Quantum Engineering and Space-Time Res., Leibniz Universitaet Hannover, DEU) ,  KADHKODA Puja (Laser Zentrum Hannover e.V., Hollerithallee 8, 30419 Hannover, DEU) ,  RISTAU Detlev (Laser Zentrum Hannover e.V., Hollerithallee 8, 30419 Hannover, DEU) ,  RISTAU Detlev (Quest: Centre of Quantum Engineering and Space-Time Res., Leibniz Universitaet Hannover, DEU)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 592  号： PB  ページ： 271-275  発行年： 2015年10月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 粒子汚染のためコーティングに埋め込まれた欠陥をイオンビームスパッタリングにおける光学コーティングの品質を損なう主な要因として考えられている。膜成長からこれらの粒子を除去するために,磁気分離器と従来のイオンビームスパッタリング法を組み合わせるアプローチが述べられている。分離機は,分離機の出口に位置する基板に向けて材料のフラックスを導く曲がった軸方向の磁界を提供します。ターゲットと基板との間に見通しのない線が存在しないので,分離機は,ターゲット領域で発生した粒子が基板に到達できることを防ぐ。この文脈において,従来のイオンビームスパッタリング法を用いて堆積された光学部品よりも3倍低い粒子密度であることが判った光学部品を製造した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *イオンビームスパッタリング ,  *磁力分離 ,  被覆 ,  *欠陥 ,  部品 ,  *スパッタ蒸着
準シソーラス用語： 磁気分離 ,  光学部品

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオンビームスパッタリング ,  プロセス ,  磁場