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J-GLOBAL ID：201502212030790852   整理番号：15A0972256

電解研磨中の金属錯体の沈殿および表面吸着: 理論とX線ナノトモグラフィーおよび表面張力等温線によるキャラクタリゼーション

Precipitation and surface adsorption of metal complexes during electropolishing. Theory and characterization with X-ray nanotomography and surface tension isotherms

著者 (4件)： NAVE Maryana I. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Clemson Univ., Clemson, SC 29634, USA. [e-mail]) ,  CHEN-WIEGART Yu-chen Karen ,  WANG Jun ,  KORNEV Konstantin G.
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 17  号： 35  ページ： 23121-23131  発行年： 2015年09月21日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属の電解研磨は,しばしば錯体の沈殿が生ずる過飽和状態をもたらす。したがって,電解研磨生成物の溶解性ダイアグラムとギブスの吸着等温線は,反応生成物の沈殿の熱力学的機構を理解するために非常に重要である。水酸化カリウム水溶液中でのタングステンワイヤの電解研磨を,電解研磨の種々の熱力学的シナリオを示す例として用いた。電解研磨生成物は,ワイヤ表面に付着した周囲の電解質または多孔質シェルと不混和性の高粘性膜を形成することができる。X線ナノトモグラフィーを用いて,電解研磨中にタングステン表面に形成されたゲル状相を見出した。本研究の結果は,電解生成物が化合物の豊富なライブラリーを形成可能であることを示唆した。電解液の表面張力は,金属酸化物イオンとアルカリ金属錯体に依存する。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *電解研磨 ,  *金属錯体 ,  *沈殿 ,  *吸着 ,  トモグラフィー ,  界面張力 ,  タングステン ,  吸着等温式 ,  酸化タングステン ,  タングステン酸塩 ,  カリウム化合物 ,  水酸化カリウム ,  過飽和
準シソーラス用語： ナノトモグラフィー ,  吸着等温線 ,  *表面吸着 ,  表面張力

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (10件)： 電解研磨 ,  金属錯体 ,  沈殿 ,  表面吸着 ,  理論 ,  X線 ,  ナノトモグラフィー ,  表面張力 ,  等温線 ,  キャラクタリゼーション