文献

J-GLOBAL ID：201502212154533920   整理番号：15A1093107

紫外線/熱二重応答型三重形状記憶ポリマーを製造するための簡便なアプローチ

A facile approach to fabricate a UV/heat dual-responsive triple shape memory polymer

著者 (7件)： WU Y. (Hong Kong Polytechnic Univ., HKG) ,  WU Y. (Hong Kong Polytechnic Univ. Shenzhen Base, Shenzhen, CHN) ,  HU J. (Hong Kong Polytechnic Univ., HKG) ,  ZHANG C. (Hong Kong Polytechnic Univ., HKG) ,  HAN J. (Hong Kong Polytechnic Univ., HKG) ,  WANG Y. (Hong Kong Polytechnic Univ., HKG) ,  KUMAR B. (Hong Kong Polytechnic Univ., HKG)
資料名： Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability  (Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability)
巻： 3  号： 1  ページ： 97-100  発行年： 2015年01月07日 
JST資料番号： W0204B  ISSN： 2050-7488  CODEN： JMCAET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,紫外線/熱二重応答型三重形状記憶ポリマー(SMP)を製造するための簡便なアプローチに関する。このポリマー複合体を製造するための分子戦略は,Zn(Mebip)₂(NTf₂)₂のエポキシ樹脂の部分的混合(10wt%)により実現した。このアプローチの利点は,高分子マトリクスへのZn(Mebip)₂(NTf₂)₂の使用により,紫外線感度をSMP中に導入できることである。また,Zn(Mebip)₂(NTf₂)₂セグメント化材料構造の光-熱輸送特性のおかげで,製造したポリマーは,成分部分に比べて高い紫外線感度を示したが,SMP部分の形状は不変のままであった。

シソーラス用語： 紫外線 ,  熱 ,  *機能性高分子 ,  *重合体 ,  亜鉛錯体 ,  エポキシ樹脂 ,  セグメンテーション ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析
準シソーラス用語： EDX分析 ,  SEM【顕微鏡】 ,  TEM【顕微鏡】 ,  セグメント化 ,  *形状記憶ポリマ

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (2件)： ビス(トリフルオロメチル)イミド ,  2,6-ビス(1-メチル-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル)ピリジン

タイトルに関連する用語 (4件)： 紫外線 ,  応答 ,  三重 ,  形状記憶ポリマー