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J-GLOBAL ID：201502212174691077   整理番号：15A1205264

アミノ修飾オリゴヌクレオチドの固定化に向けた3,4-エポキシブチルトリメトキシシランの超臨界流体堆積を用いた酸化ケイ素の官能化

Functionalization of silicon oxide using supercritical fluid deposition of 3,4-epoxybutyltrimethoxysilane for the immobilization of amino-modified oligonucleotide

著者 (18件)： RULL Jordi (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble F38000, FRA) ,  RULL Jordi (CEA, LETI, MINATEC Campus, Grenoble Cedex 9 F38054, FRA) ,  RULL Jordi (CEA, iRTSV, LCBM, Grenoble 38054, FRA) ,  RULL Jordi (CNRS, UMR 5249, Grenoble, FRA) ,  NONGLATON Guillaume (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble F38000, FRA) ,  NONGLATON Guillaume (CEA, LETI, MINATEC Campus, Grenoble Cedex 9 F38054, FRA) ,  COSTA Guillaume (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble F38000, FRA) ,  COSTA Guillaume (CEA, LETI, MINATEC Campus, Grenoble Cedex 9 F38054, FRA) ,  FONTELAYE Caroline (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble F38000, FRA) ,  FONTELAYE Caroline (CEA, LETI, MINATEC Campus, Grenoble Cedex 9 F38054, FRA) ,  MARCHI-DELAPIERRE Caroline (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble F38000, FRA) ,  MARCHI-DELAPIERRE Caroline (CEA, iRTSV, LCBM, Grenoble 38054, FRA) ,  MARCHI-DELAPIERRE Caroline (CNRS, UMR 5249, Grenoble, FRA) ,  MENAGE Stephane (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble F38000, FRA) ,  MENAGE Stephane (CEA, iRTSV, LCBM, Grenoble 38054, FRA) ,  MENAGE Stephane (CNRS, UMR 5249, Grenoble, FRA) ,  MARCHAND Gilles (Univ. Grenoble Alpes, Grenoble F38000, FRA) ,  MARCHAND Gilles (CEA, LETI, MINATEC Campus, Grenoble Cedex 9 F38054, FRA)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 354  号： PB  ページ： 285-297  発行年： 2015年11月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シランを用いたシリコン酸化物ベースの基板の官能化は,一般に,液相法を手段として行われる。これらのプロセスは,潜在的に膨大な量の有毒な溶媒を必要とし,マイクロデバイスまたは多孔性材料を官能化する上で,例えば低拡散といったいくつかの重要な欠点を示す。この欠点を克服するために,分子蒸着(MVD),または超臨界流体堆積(SFD)のような溶媒を含まない方法が開発されている。本論文では,溶媒として超臨界二酸化炭素(scCO₂)を用いて,初めてシリコン酸化膜上への3,4-エポキシブチルトリメトキシシラン(EBTMOS)の堆積プロセスを調べた。エポキシシランのオキシラン環は容易にアミン基と反応し,診断用途にとってアミノ修飾オリゴヌクレオチドや抗体のグラフト化は特に興味深い。次に,アミノ修飾オリゴヌクレオチドプローブの固定化を用いて,この特定のEBTMOS層がアミン官能基と反応する能力を評価した。プローブの存在は,蛍光標的オリゴヌクレオチドとの混成を用いて,蛍光により明らかにした。EBTMOSのSFDの性能を最適化した後,それが,ディップコーティングおよび分子蒸着法と比較して,超臨界二酸化炭素の環境に優しい特性に加えて,優れたグラフト化効率と均一性,低い反応時間をもつことを証明した。エポキシシラン層は,表面増強偏光解析コントラスト光学法,原子間力顕微鏡,多重内部反射赤外分光法およびX線光電子分光法により評価した。また,3,4-エポキシブチルトリメトキシシラン被覆層の保存可能寿命も調べた。最後に,EBTMOS被覆層の上にNH₂-オリゴヌクレオチドをグラフト化するに二つの異なる戦略,すなわち還元アミノ化と求核置換,S_N2について比較した。このEBTMOSベース被覆層は,新しい坦持触媒や回収可能触媒,健康管理用の新しい集積シリコンマイクロデバイスの製造など,幅広い用途に使用できよう。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化ケイ素 ,  *官能化 ,  *超臨界流体 ,  *オリゴヌクレオチド ,  *二酸化炭素 ,  アミン ,  蛍光 ,  エポキシ化 ,  シラン ,  アミノ化 ,  求核置換反応 ,  被覆層 ,  偏光解析法 ,  原子間力顕微鏡 ,  *物理蒸着 ,  表面改質 ,  シラン誘導体 ,  赤外吸収スペクトル ,  X線光電子スペクトル ,  *生体試料固定 ,  顕微鏡観察 ,  グリーンケミストリー ,  *バイオセンサ ,  *超臨界二酸化炭素
準シソーラス用語： DNAセンサ ,  還元アミノ化

分類 (2件)： バイオアッセイ  (EA03060N) ,  核酸一般  (EB04010U)

物質索引 (1件)： 2-[2-(トリメトキシシリル)エチル]オキシラン

タイトルに関連する用語 (7件)： 修飾 ,  オリゴヌクレオチド ,  固定化 ,  超臨界流体 ,  堆積 ,  酸化ケイ素 ,  官能化