文献
J-GLOBAL ID:201502213251667571   整理番号:15A1149077

低真空・中真空技術の基礎と応用

Low and Medium Vacuum: Fundamentals and Applications
著者 (1件):
資料名:
巻: 58  号:ページ: 325-329 (J-STAGE)  発行年: 2015年 
JST資料番号: G0194A  ISSN: 1882-2398  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
中・低真空領域は真空工学の産業応用として重要な位置を占めているが,その基礎科学は必ずしも成熟した分野とは言えない。本稿では,これらの低・中真空技術の中で従来見過ごされていたいくつかの問題を提起し,産業応用上重要な点を概説した。まず,すべり流と壁面の効果について述べた。ここでは,壁近傍での剪断流(層流)を考えた。円形断面をもつ配管の粘性流からすべり流,遷移流,分子流へと圧力が低下した時の気体分子の流れを示した。次に,粘性流領域での排気曲線について述べた。具体的な計算例として,配管で繋がれた真空装置を検討した。最後に,応用例として真空乾燥を取り上げた。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
真空技術 
引用文献 (11件):
  • 1) ここではR. G. Livesey: in <i>Fundations of Vacuum Science and Technology</i>, ed. J. M. Lafferty (John Wiley & Sons, Inc, New York, 1998), Ch. 2.1の分類に従った.
  • 2) The Japan Society of Mechanical Engineers, ed.: JSME Mechanical Engineers' Handbook α4 Fluid Mechanics (Maruzen, Tokyo, 2006).
  • 3) E. H. Kennard: Kinetic Theory of Gases (McGraw-Hill Book Company, Inc., New York, 1938).
  • 4) R. G. Livesey: in <i>Fundations of Vacuum Science and Technology</i>, ed. J. M. Lafferty (John Wiley & Sons, Inc, New York, 1998), Ch. 2.4.
  • 5) M. Knudsen: Ann. Physik, 28 (1909) 75.
もっと見る
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る