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J-GLOBAL ID：201502213251667571   整理番号：15A1149077

低真空・中真空技術の基礎と応用

Low and Medium Vacuum: Fundamentals and Applications

著者 (1件)： 福田常男 (大阪市立大学大学院工学研究科)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 58  号： 9  ページ： 325-329 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 中・低真空領域は真空工学の産業応用として重要な位置を占めているが,その基礎科学は必ずしも成熟した分野とは言えない。本稿では,これらの低・中真空技術の中で従来見過ごされていたいくつかの問題を提起し,産業応用上重要な点を概説した。まず,すべり流と壁面の効果について述べた。ここでは,壁近傍での剪断流(層流)を考えた。円形断面をもつ配管の粘性流からすべり流,遷移流,分子流へと圧力が低下した時の気体分子の流れを示した。次に,粘性流領域での排気曲線について述べた。具体的な計算例として,配管で繋がれた真空装置を検討した。最後に,応用例として真空乾燥を取り上げた。

シソーラス用語： 中真空 ,  *真空 ,  滑り流 ,  壁面 ,  分子流 ,  分子 ,  粘性流 ,  真空装置 ,  *真空乾燥 ,  *真空技術
準シソーラス用語： 気体分子 ,  低真空 ,  排気曲線

分類 (1件)： 真空技術  (BA02020L)

引用文献 (11件)：

• 1) ここではR. G. Livesey: in <i>Fundations of Vacuum Science and Technology</i>, ed. J. M. Lafferty (John Wiley & Sons, Inc, New York, 1998), Ch. 2.1の分類に従った.
• 2) The Japan Society of Mechanical Engineers, ed.: JSME Mechanical Engineers' Handbook α4 Fluid Mechanics (Maruzen, Tokyo, 2006).
• 3) E. H. Kennard: Kinetic Theory of Gases (McGraw-Hill Book Company, Inc., New York, 1938).
• 4) R. G. Livesey: in <i>Fundations of Vacuum Science and Technology</i>, ed. J. M. Lafferty (John Wiley & Sons, Inc, New York, 1998), Ch. 2.4.
• 5) M. Knudsen: Ann. Physik, 28 (1909) 75.

タイトルに関連する用語 (4件)： 真空 ,  中真空 ,  基礎 ,  応用