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J-GLOBAL ID：201502213852386120   整理番号：15A0868838

電子線照射によるホウケイ酸塩ガラスのZnナノドットパターニング

Zn nanodot patterning in borosilicate glasses by electron irradiation

著者 (3件)： SABRI Mohammed Mohammed (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  HAND Russell J. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  MOEBUS Guenter (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR)
資料名： Journal of Materials Research  (Journal of Materials Research)
巻： 30  号： 12  ページ： 1914-1924  発行年： 2015年06月28日 
JST資料番号： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Zn量が30と60mol%の2種類の亜鉛ホウケイ酸塩ガラスに,透過型電子顕微鏡の電界放射銃とLaB₆熱フィラメントを用いて各々200と300keVの電子線を固定又は走査して照射し,金属Znナノ粒子の生成挙動とパターニングを調べた。固定照射の場合,ガラスのアブレーションとナノ粒子の生成が並行した。ナノ粒子は大部分がZnOではなく金属Znであった。Zn量が少ないガラスは析出が遅かった。Znナノ粒子の大きさは電子線の中心からの距離に反比例し,照射時間が長くなるとナノ粒子は合体してより大きな粒子に成長し,3分で26~66nmとなった。線走査により粒度分布が電子線のガウス分布に従う粒子が中心線に沿って生成し,近傍粒子の鎖状の周期的な秩序化が認められた。

シソーラス用語： *ホウケイ酸ガラス ,  *亜鉛化合物 ,  *電子照射 ,  *亜鉛 ,  ナノ構造 ,  *ナノ粒子 ,  *パターン形成 ,  アブレーション ,  粒度分布 ,  正規分布
準シソーラス用語： Gauss分布 ,  ナノドット ,  パターンニング ,  ホウケイ酸塩ガラス ,  電子線照射

分類 (2件)： ガラスの製造  (YC02020O) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電子線照射 ,  ホウケイ酸塩ガラス ,  Zn