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J-GLOBAL ID:201502214582313865   整理番号:15A1018454

窒化ケイ素による太陽電池の効率良い不動態化

Efficient passivation of solar cells by silicon nitride
著者 (6件):
資料名:
巻: 120  号: PB  ページ: 95-99  発行年: 2015年10月 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,多結晶シリコン太陽電池の効率良い不動態化が得られる,PECVD窒化ケイ素(SiN)膜の蒸着パラメータを調べた。調べたパラメータは,ガスプロセス流量比SiH4/NH3を通した温度,電力,及び屈折率である。対称な構造SiN/Si/SiNと,準定常状態光コンダクタンス(Quasi-Steady-State Photo-Conductance,QSSPC)特性評価を使って,最適温度と最適電力は各々380°C,4500Wであることを見いだした。多結晶シリコン太陽電池上に蒸着したSiN膜の光学・電気特性を生じる方法を使って最適な屈折率を決定した。この方法は短絡電流密度の計算に基づき,最適な屈折率は1.9であることを明らかにした。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
分類
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太陽電池  ,  その他の無機化合物の薄膜 
タイトルに関連する用語 (3件):
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