文献

J-GLOBAL ID：201502215051396240   整理番号：15A0928057

非晶質二酸化チタン膜堆積中の表面構造に及ぼすチタンイオンエネルギーの影響【Powered by NICT】

Effect of titanium ion energy on surface structure during the amorphous titanium dioxide film deposition

著者 (6件)： Chen Xian (Key Lab. for Physical Electronics and Devices of Ministry of Education, School of Electronic and Information ...) ,  Wang Yanwu (Key Lab. for Physical Electronics and Devices of Ministry of Education, School of Electronic and Information ...) ,  Wang Xiaoyan (Key Lab. for Physical Electronics and Devices of Ministry of Education, School of Electronic and Information ...) ,  An Shudong (Key Lab. for Physical Electronics and Devices of Ministry of Education, School of Electronic and Information ...) ,  Wang Xiaobo (Key Lab. for Physical Electronics and Devices of Ministry of Education, School of Electronic and Information ...) ,  Zhao Yuqing (Key Lab. for Physical Electronics and Devices of Ministry of Education, School of Electronic and Information ...)
資料名： Wuli Xuebao  (Wuli Xuebao)
巻： 63  号： 24  ページ： 246801-1-246801-5  発行年： 2014年 
JST資料番号： B0628A  ISSN： 1000-3290  CODEN： WLHPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本論文では,表面構造形成機構の影響と非晶質TiO_2薄膜堆積過程における入射チタンイオンエネルギーに及ぼす膜特性を調べた。結果は,膜の表面粗さは,入射するTiイオンのエネルギーの増加により減少し,膜表面の光散乱損失は減少することを示した。,入射イオンエネルギーが増加すると,膜成長パターンは「島状」成長から「層状」成長することが判明すると,入射点近傍でのイオンの表面拡散係数も有意に増加し,これはより滑らかな膜表面の形成に貢献する。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 薄膜成長 ,  入射 ,  *非晶質 ,  拡散係数 ,  光散乱 ,  *表面構造 ,  *イオン ,  表面粗さ
準シソーラス用語： *イオンエネルギー ,  形成機構 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 数理物理学  (BA03000W)

タイトルに関連する用語 (6件)： 非晶質 ,  酸化チタン膜 ,  堆積 ,  表面構造 ,  チタン ,  イオンエネルギー