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J-GLOBAL ID：201502215348299928   整理番号：15A1158998

アンジュレータ放射によるシリカベース膜の屈折率変化

Refractive-index modifications in Silica-Based Films by Undurator Radiation

著者 (4件)： MORIWAKI K. (Kobe Univ.) ,  KIMURA G. (Kobe Univ.) ,  KANDA K. (Univ. Hyogo) ,  MATSUI S. (Univ. Hyogo)
資料名： LASTI Annual Report  (LASTI Annual Report)
巻： 16  ページ： 79-80  発行年： 2015年09月 
JST資料番号： L4711A  ISSN： 2189-6909  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニュースバル(BL7A)によるアンジュレータ放射(UR)を用いて,導波路のような光学デバイスの応用としてシリカベース膜の改質を行った。改質部分を主に,浅い部分と比較的深い部分の2つの層に分離した。表面からの厚さが5nm以下の薄い層は,URエネルギーに依存して,強い還元と10^-2のオーダーの屈折率変化が見られた。比較的深い部分の屈折率変化は10^-3のオーダーであった。光吸収測定による評価を行って,屈折率変化の原因としていくつかの種類の欠陥を見出した。多層フィルタ(ピークエネルギーが80eV)を使ってUR照射した試料においても欠陥が見られたが,この試料では表面還元層は見られなかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *シンクロトロン放射 ,  電子ビーム ,  *屈折率 ,  *二酸化ケイ素 ,  光吸収 ,  格子欠陥 ,  還元 ,  アンジュレータ放射
準シソーラス用語： シリカ

分類 (2件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (3件)： アンジュレータ放射 ,  シリカ ,  屈折率変化