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J-GLOBAL ID：201502215907745534   整理番号：15A0811258

フェムト秒レーザを利用した迅速なLED加工のための新たな幾何学的アプローチ

A new geometrical approach for rapid LED processing by using femtosecond laser

著者 (8件)： REKLAITIS I. (Inst. of Applied Res., Vilnius Univ., Sauletekio 10, LT-10223 Vilnius, LTU) ,  GRINYS T. (Inst. of Applied Res., Vilnius Univ., Sauletekio 10, LT-10223 Vilnius, LTU) ,  TOMASIUNAS R. (Inst. of Applied Res., Vilnius Univ., Sauletekio 10, LT-10223 Vilnius, LTU) ,  PUODZIUNAS T. (Laser Center, Sauletekio 10, Vilnius Univ., Sauletekio 10, LT-10223 Vilnius, LTU) ,  MAZULE L. (Laser Center, Sauletekio 10, Vilnius Univ., Sauletekio 10, LT-10223 Vilnius, LTU) ,  SIRUTKAITIS V. (Laser Center, Sauletekio 10, Vilnius Univ., Sauletekio 10, LT-10223 Vilnius, LTU) ,  LIN C.H. (Graduate Inst. of Photonics and Optoelectronics, National Taiwan Univ., 1, Roosevelt Road, Section 4, Taipei 10617 ...) ,  YANG C.C. (Graduate Inst. of Photonics and Optoelectronics, National Taiwan Univ., 1, Roosevelt Road, Section 4, Taipei 10617 ...)
資料名： Optics and Lasers in Engineering  (Optics and Lasers in Engineering)
巻： 74  ページ： 17-21  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： A0602B  ISSN： 0143-8166  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトリソグラフィーマスクの製造で消費される時間や資源を低減するために,新しいオリジナルな方法を提案した。フェムト秒レーザ直接描画法を利用した。ナノ秒とピコ秒のパルス加工法に比べてよりクリーンな周辺環境を得るために,角度45°のアブレーションの幾何学的配置を検討した。発光ダイオードチップのトレンチ分離とN型GaN層の露光を同時に行い,1回の基本加工工程とアライメント工程を節約した。量子井戸領域にはレーザ加工による有害な影響がなかった。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *発光ダイオード ,  *フェムト秒レーザ ,  *パルスレーザ照射 ,  急速加熱 ,  アラインメント ,  *レーザアブレーション ,  レーザリソグラフィー ,  *レーザ加工 ,  量子井戸 ,  幾何光学法 ,  フォトマスク ,  ナノ秒 ,  ピコ秒 ,  角度依存性 ,  トレンチカット【加工】 ,  窒化ガリウム ,  N型半導体 ,  露光

分類 (3件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  発光素子  (NC03082G) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (3件)： フェムト秒レーザ ,  LED ,  幾何学