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J-GLOBAL ID：201502216020836523   整理番号：15A0791839

希釈NH₄Cl水溶液を用いたパルスマグネトロンスパッタZnO:Al膜の表面テクスチャ

Surface Texture of Pulse-magnetron-sputtered ZnO:Al Films by Using a Diluted NH₄ Cl Aqueous Solution

著者 (3件)： CHEN Chao (Zhengzhou Univ., Zhengzhou, CHN) ,  LIANG Yan (Henan Univ. Technol., Zhengzhou, CHN) ,  GAO Xiao-Yong (Zhengzhou Univ., Zhengzhou, CHN)
資料名： Journal of the Korean Physical Society  (Journal of the Korean Physical Society)
巻： 66  号： 10  ページ： 1569-1574  発行年： 2015年05月29日 
JST資料番号： T0357A  ISSN： 0374-4884  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 韓国 (KOR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 塩化アンモニウム ,  マグネトロンスパッタリング ,  薄膜成長 ,  *酸化亜鉛 ,  半導体材料 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *表面性状 ,  光トラッピング ,  電子顕微鏡観察 ,  *反射スペクトル ,  スペクトル ,  反射率 ,  光反射 ,  ドーピング ,  アルミニウム
準シソーラス用語： X線回折パターン ,  透過スペクトル

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： 希釈 ,  NH4Cl ,  水溶液 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタ ,  ZnO ,  Al膜 ,  表面テクスチャ