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J-GLOBAL ID：201502216686436952   整理番号：15A0717306

高い光重合活性を示すジアセチレン有機ゲル膜中へのポリジアセチレンパターンの作製

著者 (5件)： 高橋大樹 (東京理大 理) ,  楢崎健太 (東理大 院) ,  玉置信之 (北大 電子科研) ,  青木健一 (東京理大 理) ,  青木健一 (東理大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 3  ページ： 929  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 芳香族末端型ジアセチレンゲル化剤は芳香族溶媒を含む多くの有機溶媒をゲル化でき高い光重合活性を示す。本研究では,本ゲル化剤からなるp-キシレンゲルをゾル状態で鋳型に流し込み,再びゲル化させることにより所望の厚みを持つゲル膜を得ることができた。フォトマスクを介して本膜に光照射を行うと,照射部に選択的にポリジアセチレンが形成し,ゲル中に良好なパターニングを施すことができた。(著者抄録)

シソーラス用語： *パターン形成 ,  *ポリジアセチレン類 ,  ゲル化 ,  紫外線照射 ,  添加剤 ,  *光重合 ,  活性 ,  ジイン ,  アルキルベンゼン ,  ゲル化剤

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： p-キシレン

タイトルに関連する用語 (5件)： 光重合 ,  活性 ,  ジアセチレン ,  有機ゲル ,  作製