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J-GLOBAL ID：201502217041708971   整理番号：15A0981016

フェリ磁性における磁気ヒステリシスループのシミュレーション

Simulation of the Magnetic Hysteresis Loop in Ferrimagnetism

著者 (3件)： YONEDA Morishige (Japan Electronics Coll.) ,  OBATA Shuji (School of Sci. & Engineering, Tokyo Denki Univ.) ,  NIWA Masaaki (School of Engineering, Tokyo Denki Univ.)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 56  号： 9  ページ： 1488-1490 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スピントロニクス応用分野で注目されている,フェリ磁性材料であるナノスケールFe₃O₄を調査した。フェリ磁性を持つFe₃O₄の磁化過程を調べるために,著者等が行った遅延追跡法を用いた計算機シミュレーションにより,様々なパラメータを持つ磁気ヒステリシスループを導いた結果を報告した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フェリ磁性 ,  *磁気ヒステリシス ,  曲線 ,  スピントロニクス ,  *磁性材料 ,  規模 ,  酸化鉄 ,  磁化 ,  計算機シミュレーション ,  パラメータ ,  薄膜成長 ,  反強磁性 ,  表面磁性 ,  強磁性体
準シソーラス用語： ナノスケール ,  ヒステリシスループ ,  四三酸化鉄

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (15件)：

• 1) D. Tripathy, A. O. Adeyeye and S. Shannigrahi: Phys. Rev. B 75 (2007) 012403.
• 2) T. Kado: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 092502.
• 3) H.-C. Wu, O. N. Mryasov, M. Abid, K. Radican and I. V. Shvets: Scientific Reports 3 (2013) 1830.
• 4) S. Obata: Mater. Trans. 54 (2013) 1661–1677.
• 5) S. Obata: IEEJ Trans. FM 131 (2011) 838–845 (in Japanese).

タイトルに関連する用語 (4件)： フェリ磁性 ,  磁気 ,  ヒステリシスループ ,  シミュレーション