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J-GLOBAL ID：201502217228124980   整理番号：15A0694626

粉体,セラミックス,コンパクト,薄膜用の誘電性オキシ窒化物ペロブスカイトの処理加工

Processing of dielectric oxynitride perovskites for powders, ceramics, compacts and thin films

著者 (3件)： MASUBUCHI Y. (Fac. of Engineering, Hokkaido Univ., N13 W8, Kita-ku, Sapporo, 060-8628, Japan. [e-mail] ...) ,  SUN S.-K. ,  KIKKAWA S.
資料名： Dalton Transactions  (Dalton Transactions)
巻： 44  号： 23  ページ： 10570-10581  発行年： 2015年06月21日 
JST資料番号： A0270A  ISSN： 1477-9226  CODEN： DTARAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オキシドと窒化物の双方を含有するオキシ窒化物ペロブスカイトは,新規クラスの誘電材料である。これらの材料の誘電特性の研究や利用においては,バルクセラミックスや薄膜における成型加工が必須因子と言える。本展望では,粉体調製と焼結熱安定,幾つかの焼結法,超高圧圧密化,薄膜形成などの観点から,オキシ窒化物ペロブスカイト誘電材料成型に関する最近の研究のレビューを行った。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *誘電材料 ,  酸化物 ,  窒化物 ,  *ペロブスカイト型結晶 ,  *加工 ,  *成形 ,  セラミック ,  *粉末製造 ,  *焼結 ,  熱安定性
準シソーラス用語： *オキシ窒化物 ,  圧密化 ,  *処理加工 ,  *薄膜形成

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  窒素とその化合物  (YB02050S)

タイトルに関連する用語 (8件)： 粉体 ,  セラミックス ,  コンパクト ,  薄膜 ,  誘電性 ,  オキシ窒化物 ,  ペロブスカイト ,  処理加工