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J-GLOBAL ID：201502219941888684   整理番号：15A1202621

TiO₂-SiO₂ガラス光共振器のための熱膨張係数のゼロ交差温度の制御及び機械的残留応力の低減

Control of zero-crossing temperature of coefficient of thermal expansion and reduction of mechanical residual stress for TiO₂-SiO₂ glass optical cavity

著者 (14件)： ARAKAWA Mototaka (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KUSHIBIKI Jun-ichi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OHASHI Yuji (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MARUYAMA Yuko (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YAMADA Naofumi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  NAGANO Shigeo (National Inst. of Information and Communications Technol., Tokyo, JPN) ,  LI Ying (National Inst. of Information and Communications Technol., Tokyo, JPN) ,  HOSOKAWA Mizuhiko (National Inst. of Information and Communications Technol., Tokyo, JPN) ,  HANADO Yuko (National Inst. of Information and Communications Technol., Tokyo, JPN) ,  WATANABE Masahiko (Japan Aviation Electronics Ind., Tokyo, JPN) ,  WATANABE Koji (Japan Aviation Electronics Ind., Tokyo, JPN) ,  ABE Kenji (Japan Aviation Electronics Ind., Tokyo, JPN) ,  ETOH Kazuyuki (Japan Aviation Electronics Ind., Tokyo, JPN) ,  ITO Kazuhiko (Japan Aviation Electronics Ind., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 54  号： 9  ページ： 096702.1-096702.6  発行年： 2015年09月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者等は,長期的な長さ変化の無いファブリペロー光共振器を製造するための手順を開発した。著者等は,脈理を有する市販TiO₂-SiO₂ 超低膨張(ULE)ガラスインゴットから均質化されたTiO₂-SiO₂ ULEガラスインゴットを作製した。また,インゴットの仮想温度を変更するために,970°Cで72時間の加熱処理することにより,均質化したインゴットの熱膨張係数のゼロ交差温度を約30°Cに制御した。機械加工により導入された機械的な残留応力を低減しつつ,100mm長共振器スペーサを慎重に作製した。スペーサと39層Ta₂O₅/SiO₂膜の2つのミラーから構成される共振器は,29.78°Cの一定温度において,測定開始から500日後に729nmで420,000の高いフィネス及び13fm/日の高い長さ安定性を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *残留応力 ,  ガラス ,  温度 ,  熱処理 ,  *周波数標準器 ,  *零交差 ,  反射鏡 ,  *光共振器 ,  *熱膨張係数 ,  *減少
準シソーラス用語： 仮想温度 ,  加熱処理 ,  多層膜ミラー ,  超低膨張ガラス ,  低減

分類 (3件)： レーザ一般  (BD04030T) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  波形,周波数,波長,位相の計測法・機器  (AD07040Y)

引用文献 (30件)：

• W. H. Oskay, S. A. Diddams, E. A. Donley, T. M. Fortier, T. P. Heavner, L. Hollberg, W. M. Itano, S. R. Jefferts, M. J. Delaney, K. Kim, F. Levi, T. E. Parker, and J. C. Bergquist, Phys. Rev. Lett. 97, 020801 (2006).
• M. Takamoto, F.-L. Hong, R. Higashi, and H. Katori, Nature 435, 321 (2005).
• K. Matsubara, K. Hayasaka, Y. Li, H. Ito, S. Nagano, M. Kajita, and M. Hosokawa, Appl. Phys. Express 1, 067011 (2008).
• P. C. Schultz and H. T. Smyth, in Amorphous Materials, ed. R. W. Douglas and B. Ellis (Wiley, New York, 1970) p. 453.
• U. Sterr, T. Legero, T. Kessler, H. Schnatz, G. Grosche, O. Terra, and F. Riehle, Proc. SPIE 7431, 74310A (2009).

タイトルに関連する用語 (7件)： TiO2 ,  SiO2 ,  ガラス ,  光共振器 ,  熱膨張係数 ,  ゼロ交差 ,  残留応力